크롬
회전 타겟은 대면적 마그네트론 스퍼터링 시스템에서 안정적인 박막 증착을 위해 설계된 고밀도 크롬 스퍼터링 재료입니다. 뛰어난 경도, 내식성 및 플라즈마 안정성 덕분에 크롬 회전 타겟은 건축용 유리 코팅, 장식용 PVD, 광학 필름 및 산업용 진공 코팅 분야에 널리 사용됩니다.
기존의 평면 타겟에 비해 크롬 로터리 타겟은 타겟 활용도가 높고, 스퍼터링 사이클이 길며, 침식 거동이 더 균일하여 연속 인라인 코팅 생산에 적합합니다.
당사는 다양한 산업용 코팅 요구 사항을 충족하기 위해 치수, 접합 구조 및 산소 제어 제조 공정을 맞춤화할 수 있는 고순도 크롬 로터리 타겟을 공급합니다.
고순도 크롬 소재
저산소 함량 옵션 제공
고밀도 및 균일한 미세 구조
안정적인 플라즈마 성능
뛰어난 회전 스퍼터링 효율
접합형 또는 일체형 구조 선택 가능
정밀한 치수 및 공차 제어
맞춤형 길이 및 튜브 크기
신속한 납품 및 기술 지원
건축용 유리 코팅: 크롬 회전 타겟은 Low-E 유리 코팅 시스템에서 접착층 및 기능성 보호 코팅으로 널리 사용됩니다. 안정적인 스퍼터링 특성은 코팅 균일성과 생산 효율을 향상시키는 데 도움이 됩니다.
장식용 PVD 코팅:
다음과 같은 제품의 장식용 코팅에 사용됩니다:
하드웨어
자동차 트림
소비재
내마모성 표면
크롬 코팅은 금속적인 외관, 경도 및 내식성을 제공합니다.
광학 박막:
Cr 회전 타겟은 다음이 요구되는 광학 박막 증착에 적합합니다:
안정적인 플라즈마 방전
균일한 코팅 두께
낮은 입자 발생
롤-투-롤(Roll-to-Roll) 진공 코팅
고밀도 크롬 튜브 타겟은 긴 캠페인 성능과 높은 타겟 활용도로 인해 연속 웹 코팅 시스템에서 일반적으로 사용됩니다.
Q1: 크롬 타겟은 어떤 순도 수준으로 제공되나요?
A1: 용도 요구 사항에 따라 최대 99.5% 및 99.95% 순도의 크롬 로터리 타겟을 공급할 수 있습니다.
Q2: 저산소 크롬 회전 타겟을 공급할 수 있습니까?
A2: 네. 고출력 스퍼터링 시 향상된 플라즈마 안정성과 아크 발생 감소가 필요한 용도를 위해 저산소 공정을 적용할 수 있습니다.
Q3: 어떤 본딩 옵션이 있습니까?
A3: 음극 시스템 요구 사항에 따라 다양한 백킹 튜브 솔루션을 적용한 본딩 크롬 회전 타겟을 제공합니다.
Q4: 어떤 크기로 제조할 수 있습니까?
A4: 고객 도면이나 스퍼터링 시스템 사양에 따라 맞춤형 치수, 길이, 외경 및 벽 두께로 제작 가능합니다. 각 배치마다
함께 제공할 수 있습니다:
기술 데이터 시트(TDS)
,
물질 안전 보건 자료(MSDS)
, 치수 검사 보고서
밀도 및 순도 시험 보고서
요청 시 제3자 시험 보고서
당사는 고순도 스퍼터링 재료 및 산업용 회전 타겟 제조를 전문으로 합니다. 당사의 크롬 회전 타겟은 안정적인 스퍼터링 성능, 신뢰할 수 있는 본딩 품질, 일관된 재료 특성을 보장하기 위해 엄격한 품질 관리 하에 생산됩니다. 유연한 맞춤 제작 능력, 신속한 대응 및 기술 지원을 통해, 당사는 까다로운 진공 증착 응용 분야에서 고객의 코팅 안정성과 생산 효율성을 향상시키는 데 도움을 드립니다.
분자 공식: Cr
분자량: 52.00 g/mol
외관: 은백색 회전 타겟 물질
밀도: 7.19 g/cm³
녹는점: 1907°C
끓는점: 2671 °C
결정 구조: 몸체 중심 입방체(BCC)
내부 포장: 오염 및 습기를 방지하기 위해 진공 밀봉된 봉지 또는 병.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 적합한 골판지 상자 또는 드럼통을 선정합니다.
