Cromo son materiales para sputtering de cromo de alta densidad diseñados para la deposición estable de películas finas en sistemas de sputtering magnetrónico de gran superficie. Debido a su excelente dureza, resistencia a la corrosión y estabilidad del plasma, los cátodos rotativos de cromo se utilizan ampliamente en aplicaciones de revestimiento de vidrio arquitectónico, PVD decorativo, películas ópticas y revestimiento industrial al vacío.
En comparación con los cátodos planos convencionales, los cátodos rotativos de cromo proporcionan una mayor utilización del cátodo, ciclos de sputtering más largos y un comportamiento de erosión más uniforme, lo que los hace adecuados para la producción continua de recubrimientos en línea.
Suministramos cátodos rotativos de Cr de gran pureza con dimensiones personalizables, estructuras de unión y procesos de fabricación controlados por oxígeno para satisfacer diversos requisitos de recubrimiento industrial.
Material de cromo de alta pureza
Bajo contenido de oxígeno disponible
Alta densidad y microestructura uniforme
Rendimiento estable del plasma
Excelente eficiencia de sputtering rotativo
Estructura adherida o monolítica opcional
Dimensiones precisas y control de tolerancias
Longitudes y tamaños de tubo personalizables
Entrega rápida y asistencia técnica
Recubrimiento de vidrio arquitectónico:Los cátodos rotativos de Cr se utilizan ampliamente en sistemas de recubrimiento de vidrio Low-E como capas de adherencia y recubrimientos protectores funcionales. Su comportamiento de sputtering estable ayuda a mejorar la uniformidad del recubrimiento y la eficiencia de la producción.
Recubrimiento PVD decorativo:
Se utiliza para revestimientos decorativos en:
Ferretería
Embellecedores de automóviles
Productos de consumo
Superficies resistentes al desgaste
Los recubrimientos de cromo proporcionan un aspecto metálico, dureza y resistencia a la corrosión.
Películasópticas finas :
Los cátodos rotativos de Cr son adecuados para la deposición de películas ópticas que lo requieran:
Descarga de plasma estable
Espesor uniforme del revestimiento
Baja generación de partículas
Recubrimiento al vacío rollo a rollo
Los cátodos tubulares de cromo de alta densidad se utilizan comúnmente en sistemas de recubrimiento de banda continua debido a su rendimiento en campañas largas y a la alta utilización del cátodo.
P1: ¿Qué niveles de pureza hay disponibles para cátodos de cromo?
R1: Podemos suministrar cátodos rotativos de cromo con una pureza de hasta el 99,5% y el 99,95%, en función de los requisitos de la aplicación.
P2: ¿Se pueden suministrar cátodos rotativos de cromo con bajo contenido en oxígeno?
A2:Sí. El procesamiento con bajo contenido en oxígeno está disponible para aplicaciones que requieren una mayor estabilidad del plasma y una reducción del arco eléctrico durante el sputtering de alta potencia.
P3: ¿Qué opciones de unión están disponibles?
R3: Ofrecemos cátodos rotativos de cromo aglomerado con varias soluciones de tubos de soporte en función de los requisitos del sistema catódico.
P4: ¿Qué tamaños pueden fabricar?
A4:Dimensiones, longitudes, diámetros exteriores y dimensiones, longitudes, diámetros exteriores y espesores de pared personalizados según los planos del cliente o las especificaciones del sistema de pulverización catódica.
Cada lote puede suministrarse con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha técnica (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Informe de inspección dimensional
Informes de pruebas de densidad y pureza
Informes de pruebas de terceros a petición
Somos especialistas en materiales de alta pureza para sputtering y en la fabricación de cátodos rotatorios industriales. Nuestros cátodos rotativos de cromo se fabrican con un estricto control de calidad para garantizar un rendimiento estable del sputtering, una calidad de unión fiable y unas propiedades de material consistentes. Gracias a nuestras flexibles capacidades de personalización, rápida respuesta y asistencia técnica, ayudamos a nuestros clientes a mejorar la estabilidad del revestimiento y la eficacia de la producción en las exigentes aplicaciones de deposición en vacío.
Fórmula molecular: Cr
Peso molecular: 52,00 g/mol
Aspecto: Material blanco plateado rotatorio
Densidad: 7,19 g/cm³
Punto de fusión: 1907 °C
Punto de ebullición: 2671 °C
Estructura cristalina: Cúbica centrada en el cuerpo (BCC)
Envasado interior: Bolsas o botellas selladas al vacío para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o bidones adecuados seleccionados en función del tamaño y el peso.
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