Les cibles rotatives
en chrome
sont des matériaux de pulvérisation en chrome à haute densité, conçus pour permettre un dépôt stable de couches minces dans les systèmes de pulvérisation magnétron à grande surface. Grâce à leur excellente dureté, leur résistance à la corrosion et leur stabilité au plasma, les cibles rotatives en chrome sont largement utilisées dans le revêtement du verre architectural, le PVD décoratif, les films optiques et les applications industrielles de revêtement sous vide.
Par rapport aux cibles planes conventionnelles, les cibles rotatives en chrome offrent une meilleure utilisation de la cible, des cycles de pulvérisation plus longs et un comportement d’érosion plus uniforme, ce qui les rend adaptées à la production en continu de revêtements en ligne.
Nous fournissons des cibles rotatives en Cr de haute pureté avec des dimensions personnalisables, des structures de liaison et des processus de fabrication à teneur en oxygène contrôlée afin de répondre aux diverses exigences industrielles en matière de revêtement.
Matériau en chrome de haute pureté
Faible teneur en oxygène disponible
Microstructure uniforme et haute densité
Performances plasma stables
Excellente efficacité de pulvérisation rotative
Structure collée ou monolithique en option
Contrôle précis des dimensions et des tolérances
Longueurs et tailles de tubes personnalisables
Livraison rapide et assistance technique
Revêtement de verre architectural : Les cibles rotatives en Cr sont largement utilisées dans les systèmes de revêtement de verre Low-E comme couches d’adhérence et revêtements protecteurs fonctionnels. Leur comportement de pulvérisation stable contribue à améliorer l’uniformité du revêtement et l’efficacité de la production.
Revêtement PVD décoratif :
Utilisé pour les revêtements décoratifs sur :
Quincaillerie
Garnitures automobiles
Produits de consommation
Surfaces résistantes à l’usure
Les revêtements de chrome offrent un aspect métallique, une dureté et une résistance à la corrosion.
Films optiques minces :
Les cibles rotatives en Cr conviennent au dépôt de films optiques nécessitant :
Une décharge plasma stable
Une épaisseur de revêtement uniforme
Une faible génération de particules
Revêtement sous vide roll-to-roll
Les cibles tubulaires en chrome à haute densité sont couramment utilisées dans les systèmes de revêtement en continu sur bande en raison de leurs performances à long terme et de leur haut rendement.
Q1 : Quels sont les niveaux de pureté disponibles pour les cibles en chrome ?
A1 : Nous pouvons fournir des cibles rotatives en chrome d’une pureté allant jusqu’à 99,5 % et 99,95 % selon les exigences de l’application.
Q2 : Pouvez-vous fournir des cibles rotatives en chrome à faible teneur en oxygène ?
A2 : Oui. Un traitement à faible teneur en oxygène est disponible pour les applications nécessitant une meilleure stabilité du plasma et une réduction des arcs électriques lors de la pulvérisation à haute puissance.
Q3 : Quelles sont les options de collage disponibles ?
A3 : Nous proposons des cibles rotatives en chrome collées avec différentes solutions de tubes de support, en fonction des exigences du système cathodique.
Q4 : Quelles dimensions pouvez-vous fabriquer ?
A4 : Des dimensions, longueurs, diamètres extérieurs et épaisseurs de paroi sur mesure sont disponibles selon les plans du client ou les spécifications du système de pulvérisation.
Chaque lot peut être fourni avec :
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection dimensionnelle
Rapports d’essais de densité et de pureté
Des rapports d’essais effectués par des tiers sur demande
Nous sommes spécialisés dans les matériaux de pulvérisation de haute pureté et la fabrication de cibles rotatives industrielles. Nos cibles rotatives en chrome sont produites selon un contrôle qualité rigoureux afin de garantir des performances de pulvérisation stables, une qualité de liaison fiable et des propriétés matérielles constantes. Grâce à nos capacités de personnalisation flexibles, à notre réactivité et à notre assistance technique, nous aidons nos clients à améliorer la stabilité des revêtements et l’efficacité de la production dans les applications exigeantes de dépôt sous vide.
Formule moléculaire : Cr
Poids moléculaire : 52.00 g/mol
Aspect : Matériau cible rotatif blanc argenté
Densité : 7.19 g/cm³
Point de fusion : 1907 °C
Point d’ébullition : 2671 °C
Structure cristalline : Cubique centré (BCC)
Emballage intérieur : sachets ou bouteilles sous vide pour éviter toute contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : cartons ou fûts adaptés, choisis en fonction de la taille et du poids.
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