金属クロム

クロム回転ターゲットの概要

クロム
回転ターゲットは、大面積マグネトロンスパッタリングシステムにおいて安定した薄膜成膜を行うために設計された、高密度のクロムスパッタリング材料です。優れた硬度、耐食性、およびプラズマ安定性を備えているため、クロム回転ターゲットは建築用ガラスコーティング、装飾用PVD、光学フィルム、および産業用真空コーティング用途で広く使用されています。

従来の平面ターゲットと比較して、クロムロータリーターゲットはターゲット利用率が高く、スパッタリングサイクルが長く、侵食挙動がより均一であるため、連続インラインコーティング生産に適しています。

当社は、様々な産業用コーティングの要件を満たすため、寸法、接合構造、および酸素管理された製造プロセスをカスタマイズ可能な高純度Crロータリーターゲットを提供しています。

製品の特長

高純度クロム材料
低酸素含有量対応
高密度かつ均一な微細構造
安定したプラズマ性能
優れたロータリースパッタリング効率
ボンディング構造またはモノリシック構造の選択可能
精密な寸法および公差管理
長さおよびチューブサイズのカスタマイズ可能
短納期および技術サポート

クロムロータリーターゲットの

用途建築用ガラスコーティング：クロムロータリーターゲットは、Low-Eガラスコーティングシステムにおいて、密着層や機能性保護コーティングとして広く使用されています。 その安定したスパッタリング特性により、コーティングの均一性と生産効率の向上に貢献します。

装飾用PVDコーティング：
以下の装飾コーティングに使用されます：
金物
自動車用トリム
消費財
耐摩耗性表面
クロムコーティングは、金属的な外観、硬度、および耐食性を提供します。

光学薄膜：
Crロータリーターゲットは、以下を必要とする光学膜の成膜に適しています：
安定したプラズマ放電
均一な膜厚
低パーティクル発生
ロール・ツー・ロール真空コーティング
高密度クロムチューブターゲットは、その長期にわたる安定した性能と高いターゲット利用率から、連続ウェブコーティングシステムで一般的に使用されています。

FAQ

Q1: クロムターゲットにはどのような純度レベルがありますか？
A1: 用途の要件に応じて、純度99.5%および99.95%のクロムロータリーターゲットをご提供可能です。

Q2: 低酸素クロム回転ターゲットは供給可能ですか？
A2: はい。高出力スパッタリング時のプラズマ安定性の向上やアーク発生の低減が求められる用途向けに、低酸素処理を施した製品をご用意しています。

Q3: どのようなボンディングオプションがありますか？
A3: カソードシステムの要件に応じて、様々なバッキングチューブソリューションを備えたボンディング済みクロム回転ターゲットを提供しています。

Q4：どのようなサイズを製造できますか？
A4：お客様の図面やスパッタリングシステムの仕様に応じて、寸法、長さ、外径、肉厚をカスタマイズ可能です。各ロットには、以下の書類を添付して納入いたします：

分析証明書（COA）
、
技術データシート（TDS）、
製品安全データシート（MSDS）
、寸法検査報告書
密度および純度試験報告書
ご要望に応じて第三者機関による試験報告書も提供可能です

。 当社を選ぶ理由：

当社は、高純度スパッタリング材料および工業用ロータリーターゲットの製造を専門としています。当社のクロム製ロータリーターゲットは、安定したスパッタリング性能、信頼性の高いボンディング品質、および一貫した材料特性を確保するため、厳格な品質管理の下で製造されています。柔軟なカスタマイズ能力、迅速な対応、そして技術サポートにより、当社は、要求の厳しい真空蒸着アプリケーションにおいて、お客様のコーティング安定性と生産効率の向上を支援します。