クロムロータリーターゲットは、大面積マグネトロンスパッタリングシステムでの安定した薄膜成膜用に設計された高密度クロムスパッタリング材料です。その優れた硬度、耐食性、プラズマ安定性により、クロムロータリーターゲットは建築用ガラスコーティング、装飾PVD、光学フィルム、工業用真空コーティング用途に広く使用されています。
従来の平面ターゲットと比較して、クロムロータリーターゲットは、高いターゲット利用率、より長いスパッタリングサイクル、より均一な浸食挙動を提供し、連続インラインコーティング生産に適しています。
当社は、様々な工業用コーティングの要求に応えるため、カスタマイズ可能な寸法、結合構造、酸素制御の製造工程を持つ高純度クロムロータリーターゲットを供給しています。
高純度クロム材料
低酸素含有量
高密度で均一な微細構造
安定したプラズマ性能
優れたロータリースパッタリング効率
オプションのボンド構造またはモノリシック構造
正確な寸法と公差制御
カスタマイズ可能な長さとチューブサイズ
迅速な納品と技術サポート
建築用ガラスコーティング:クロムロータリーターゲットは、接着層および機能性保護コーティングとしてLow-Eガラスコーティングシステムに広く使用されています。その安定したスパッタリング挙動は、コーティングの均一性と生産効率の向上に役立ちます。
装飾PVDコーティング
装飾的なコーティングに使用されます:
金物
自動車トリム
消費者製品
耐摩耗性表面
クロムコーティングは、金属的な外観、硬度、耐食性を提供します。
光学 薄膜
Crロータリーターゲットは、光学薄膜の成膜に適しています:
安定したプラズマ放電
均一な膜厚
低パーティクル発生
ロールツーロール真空コーティング
高密度クロムチューブターゲットは、その長いキャンペーン性能と高いターゲット利用率により、連続ウェブコーティングシステムで一般的に使用されています。
Q1: どのような純度のクロムターゲット?
A1:純度99.5%、99.95%まで対応可能です。
Q2:低酸素クロムターゲットの供給は可能ですか?
A2:可能です。高出力スパッタリング時のプラズマ安定性の向上とアーク放電の低減を必要とする用途に低酸素処理が可能です。
Q3:どのような ボンディング オプションはありますか?
A3:当社では、カソードシステムの要件に応じて、様々なバッキングチューブソリューションによるボンディングクロムロータリーターゲットを提供しています。
Q4:製造可能なサイズを教えてください。
A4:カスタム お客様の図面やスパッタリングシステムの仕様に応じて、寸法、長さ、外径、肉厚の特注が可能です。
各バッチに以下を添付できます:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
製品安全データシート(MSDS)
寸法検査報告書
密度および純度試験報告書
ご要望に応じた第三者試験報告書
当社は、高純度スパッタリング材料と工業用ロータリーターゲットの製造を専門としています。当社のクロムロータリーターゲットは、安定したスパッタリング性能、信頼性の高いボンディング品質、一貫した材料特性を保証するため、厳格な品質管理のもと製造されています。柔軟なカスタマイズ能力、迅速な対応、技術サポートにより、当社はお客様が要求の厳しい真空蒸着アプリケーションにおけるコーティングの安定性と生産効率を向上させるお手伝いをいたします。
分子式Cr
分子量:52.00 g/mol
外観銀白色の回転式ターゲット材
密度:7.19 g/cm³
融点:1907 °C
沸点:2671 °C
結晶構造体心立方 (BCC)
包装:汚染や湿気を防ぐため、真空密封された袋やボトル。
外包装:サイズや重量に応じて適切なカートンやドラムを選択する。