Les cibles de pulvérisation
en oxyde de vanadium
sont des cibles importantes en oxyde de métal de transition adaptées à la préparation de films minces en oxyde présentant des propriétés électriques et structurelles particulières. Ce produit est largement utilisé dans les films minces fonctionnels, la recherche sur les dispositifs électroniques et le développement de matériaux et de processus liés au changement de phase.
Nous proposons des cibles de pulvérisation en V₂O₃ de différentes tailles et structures, adaptées à différents processus et pouvant être personnalisées. Veuillez nous contacter
pour obtenir une assistance technique.
Composition d’oxyde stable
Densité élevée de la cible
Processus de pulvérisation contrôlable
Bonne répétabilité du film
Compatible avec divers processus de dépôt
Prend en charge la liaison
du fond de panier
Préparation de films minces d’oxyde fonctionnel :
peut être utilisé pour déposer des films minces d’oxyde de métal de transition, répondant aux exigences d’applications avec des propriétés électriques et structurelles spécifiques.
Matériaux à changement de phase et recherche sur les dispositifs :
cette cible est souvent utilisée pour étudier le comportement de changement de phase lié à la température ou aux champs externes, et constitue une source de dépôt importante pour les matériaux fonctionnels à changement de phase.
Applications dans l’électronique et les dispositifs micro/nano :
les films minces de V₂O₃ peuvent servir de couches fonctionnelles dans la conception de la structure des dispositifs lors de la fabrication de dispositifs électroniques et de structures micro/nano.
Recherche et développement de paramètres de processus :
convient aux universités et aux instituts de recherche pour explorer les fenêtres de processus de pulvérisation et étudier le contrôle des performances des films minces.
Q1 : À quelle méthode de pulvérisation la cible de pulvérisation d’oxyde de vanadium convient-elle ?
A1 : Cette cible peut être utilisée pour la pulvérisation RF et, dans des conditions appropriées, pour la pulvérisation DC, en fonction de la configuration de l’équipement.
Q2 : Le contrôle de l’atmosphère est-il nécessaire lors de l’utilisation de cibles V₂O₃ ?
A2 : En général, l’atmosphère de dépôt doit être contrôlée pour obtenir la composition et la structure souhaitées du film mince.
Q3 : Les cibles de pulvérisation d’oxyde de vanadium peuvent-elles être collées sur un fond de panier ?
A3 : Oui, en fonction des exigences de l’application, la cible peut être collée sur un fond de panier métallique afin d’améliorer la dissipation thermique et la stabilité du montage.
Q4 : La cible en oxyde de vanadium est-elle plus adaptée à la recherche ou à la production ?
A4 : Actuellement principalement utilisée dans la recherche scientifique et le développement de processus à petite échelle, elle convient également à la production pilote de films minces fonctionnels spécifiques.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais par des tiers disponibles sur demande
Nous avons une expérience continue dans le domaine des cibles de pulvérisation d’oxyde, nous connaissons bien les caractéristiques d’application du V₂O₃ dans le dépôt de films minces et la recherche sur les transitions de phase, et nous pouvons fournir une qualité de cible stable, des informations techniques claires et un soutien flexible en matière de personnalisation
afin d’aider nos clients à faire progresser efficacement leurs projets de recherche et d’application.
Formule moléculaire : V₂O₃
Poids moléculaire : 149,87 g/mol
Aspect : Éclat métallique noir ou bleu foncé
Densité : 5,3 g/cm³
Point de fusion : 1710°C
Structure cristalline : Rhomboédrique
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
Si vous avez besoin d'un service, veuillez nous contacter
