Vanadiumoxid
-Sputter-Targets sind wichtige Übergangsmetalloxid-Targets, die sich für die Herstellung von Oxid-Dünnschichten mit besonderen elektrischen und strukturellen Eigenschaften eignen. Dieses Produkt wird häufig in funktionalen Dünnschichten, in der Forschung zu elektronischen Geräten und bei der Entwicklung von Materialien und Prozessen im Zusammenhang mit Phasenwechseln eingesetzt.
Wir bieten V₂O₃-Sputter-Targets in verschiedenen Größen und Strukturen an und unterstützen die Prozessanpassung und kundenspezifische Bearbeitung. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische Unterstützung.
Stabile Oxidzusammensetzung
Hohe Targetdichte
Kontrollierbarer Sputterprozess
Gute Wiederholbarkeit der Schicht
Kompatibel mit verschiedenen Abscheidungsprozessen
Unterstützt Backplane-Bonding
Herstellung funktionaler Oxid-Dünnschichten:
Kann zur Abscheidung von Übergangsmetalloxid-Dünnschichten verwendet werden, die die Anforderungen von Anwendungen mit spezifischen elektrischen und strukturellen Eigenschaften erfüllen.
Phase-Change-Materialien und Geräteforschung:
Dieses Target wird häufig zur Untersuchung des Phasenwechselverhaltens in Abhängigkeit von Temperatur oder externen Feldern verwendet und ist eine wichtige Abscheidungsquelle für funktionelle Phase-Change-Materialien.
Anwendungen in Elektronik und Mikro-/Nanogeräten:
V₂O₃-Dünnschichten können bei der Herstellung von elektronischen Geräten und Mikro-/Nanostrukturen als Funktionsschichten im Gerätestrukturdesign dienen.
Forschung und Entwicklung von Prozessparametern:
Geeignet für Universitäten und Forschungseinrichtungen zur Erforschung von Sputterprozessfenstern und zur Untersuchung der Leistungssteuerung von Dünnschichten.
F1: Für welche Sputtermethode ist das Vanadiumoxid-Sputtertarget geeignet?
A1: Dieses Target kann je nach Gerätekonfiguration für RF-Sputtern und unter geeigneten Bedingungen auch für DC-Sputtern verwendet werden.
F2: Ist bei der Verwendung von V₂O₃-Targets eine Atmosphärenkontrolle erforderlich?
A2: Im Allgemeinen muss die Abscheidungsatmosphäre kontrolliert werden, um die gewünschte Zusammensetzung und Struktur des Dünnfilms zu erhalten.
F3: Können Vanadiumoxid-Sputter-Targets auf eine Rückwandplatte geklebt werden?
A3: Ja, je nach Anwendungsanforderungen kann das Target auf eine Metallrückwandplatte geklebt werden, um die Wärmeableitung und die Montagestabilität zu verbessern.
F4: Ist das Vanadiumoxid-Target eher für Forschungs- oder Produktionsanwendungen geeignet?
A4: Derzeit wird es hauptsächlich in der wissenschaftlichen Forschung und der Prozessentwicklung in kleinem Maßstab eingesetzt, eignet sich aber auch für die Pilotproduktion spezifischer funktioneller Dünnschichten.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir verfügen über langjährige Erfahrung in der Lieferung von Oxid-Sputter-Targets, sind mit den Anwendungseigenschaften von V₂O₃ in der Dünnschichtabscheidung und Phasenübergangsforschung vertraut und können eine stabile Targetqualität, klare technische Informationen und flexible Anpassungsunterstützung bieten, um Kunden bei der effizienten Weiterentwicklung ihrer Forschungs- und Anwendungsprojekte zu unterstützen.
Molekulare Formel: V₂O₃
Molekulargewicht: 149,87 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzer oder dunkelblauer Metallglanz
Dichte: 5,3 g/cm³
Schmelzpunkt: 1710°C
Kristallstruktur: Rhomboedrisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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