Siliciuro de níquel es un material disilicida de níquel de gran pureza ampliamente utilizado en dispositivos semiconductores, películas finas conductoras, materiales optoelectrónicos e investigación y desarrollo científicos.
Ofrecemos polvo de NiSi2 químicamente estable y de tamaño uniforme, personalizable para satisfacer los requisitos específicos del proceso y la aplicación. Póngase en contacto con nosotros para obtener información técnica detallada.
Disiliciuro de níquel de gran pureza
Polvo uniforme
Excelente conductividad eléctrica
Buena estabilidad térmica
Fácil de dispersar y procesar
Consistencia fiable de los lotes
Especificaciones y envases personalizables
Semiconductor Dispositivos: Adecuado para la fabricación de películas finas semiconductoras y dispositivos, mejorando la conductividad y la estabilidad del dispositivo.
Películas finas conductoras: Utilizadas para preparar películas conductoras y revestimientos funcionales, mejorando el rendimiento y la durabilidad de los dispositivos electrónicos.
Optoelectrónica Optoelectrónicos: Adecuados para películas finas de dispositivos optoelectrónicos, como fotovoltaicos y fotodetectores, mejorando la eficiencia de la conversión fotoeléctrica.
Investigación científica y desarrollo de procesos: Adecuado para que las instituciones de investigación realicen pruebas de rendimiento del polvo de disiliciuro de níquel, modificación de materiales y experimentos de nuevos procesos.
P1: ¿Se puede personalizar el tamaño de las partículas del polvo de NiSi2?
R1: Sí, ofrecemos polvos en varios rangos de tamaño de partícula para satisfacer los diferentes requisitos de procesos y aplicaciones.
P2: ¿Es el polvo propenso a la oxidación o descomposición?
A2: Es químicamente estable en condiciones secas a temperatura ambiente. Se recomienda el almacenamiento sellado para evitar la absorción de humedad.
P3: ¿Es adecuado el polvo de NiSi2 para la preparación de películas finas semiconductoras?
A3: Sí, su alta pureza y uniformidad son beneficiosas para la deposición de películas finas y la optimización del rendimiento de los dispositivos.
P4: ¿Puede utilizarse el polvo en materiales conductores y experimentos de investigación científica?
A4: Sí, puede mejorar la conductividad y facilitar las pruebas de materiales y el desarrollo de procesos en instituciones de investigación.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha técnica (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Informes de pruebas de terceros disponibles previa solicitud
Estamos especializados en la investigación y el suministro de polvo de NiSi₂ de gran pureza, haciendo hincapié en la uniformidad del polvo, la estabilidad química y la compatibilidad de los procesos, proporcionando un soporte material fiable para dispositivos semiconductores, películas finas conductoras, materiales optoelectrónicos y aplicaciones de investigación científica.
Fórmula molecular: NiSi₂
Peso molecular: 140,75 g/mol
Aspecto: Polvo negro o negro grisáceo
Densidad: Aprox. 6,51 g/cm³
Punto de fusión: Aprox. 1.500°C
Punto de ebullición: Punto de descomposición aprox. 2.000°C
Estructura cristalina: Estructura cristalina ortorrómbica
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
