Siliciuro de hafnio es un material de alto rendimiento diseñado para materiales electrónicos, procesos de revestimiento, pulvimetalurgia y desarrollo de películas finas funcionales. Con una pureza del 99,5%, presenta una excelente estabilidad térmica, conductividad eléctrica y resistencia a la oxidación, por lo que se utiliza ampliamente en materiales estructurales de alta temperatura y compuestos intermetálicos de alto rendimiento.
Ofrecemos polvo de siliciuro de hafnio en una gran variedad de tamaños de partícula y podemos personalizar la clasificación granulométrica y el tratamiento superficial para satisfacer los requisitos del cliente. También ofrecemos un completo servicio postventa ponerse en contacto con nosotros si tiene alguna pregunta.
Pureza: 99,5
Compuesto intermetálico de alto punto de fusión y gran estabilidad
Excelente conductividad eléctrica y térmica, adecuado para materiales funcionales electrónicos
Tamaño de partícula y tratamiento superficial personalizables
Adecuado para una gran variedad de procesos, incluidos componentes electrónicos, revestimientos de barrera térmica y metal-cerámica
Materiales electrónicos: Adecuado para puertas metálicas, capas tampón de electrodos y estructuras de interconexión.
Metalurgia de polvos: Se utiliza para mejorar el rendimiento de aleaciones de alta temperatura, cerámicas estructurales y materiales compuestos.
Tecnologías de revestimiento: Adecuado para revestimientos resistentes a la oxidación a alta temperatura, revestimientos de barrera térmica y películas protectoras. Investigación y desarrollo: Se utiliza para la investigación de vanguardia en la preparación de compuestos intermetálicos, materiales superduros, materiales funcionales de película fina y otros temas de vanguardia.
Proporcionamos un Certificado de análisis (COA)hoja de datos de seguridad del material (MSDS) e informes de las pruebas de rendimiento físico y químico pertinentes para cada envío. También ofrecemos servicios de pruebas de terceros para garantizar que los materiales cumplen las normas para la investigación científica o las aplicaciones industriales.
Fórmula molecular: HfSi₂
Peso molecular: 234,65 g/mol
Aspecto: Polvo metálico gris-negro con tamaño de partícula uniforme
Densidad: Aproximadamente 8,0 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 1.830°C
Estructura cristalina: Ortorrómbica (estructura C49)
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
