니오븀 실리사이드
스퍼터링 타겟은 우수한 고온 내성, 산화 저항성 및 기계적 안정성을 지닌 고융점 금속간 화합물 타겟으로, 고온 기능성 박막 및 복합 박막 증착에 적합합니다. 주로 고온 기능성 박막, 산화 저항성 코팅, 복합 전자 박막 및 열 보호 박막 제조에 사용됩니다.
당사는 순도 최대 99.5%의 원형, 직사각형, 회전 타겟 등 다양한 사양의 NbSi₂ 타겟을 제공합니다. 타겟은 열압착, 진공 소결 또는 고온 확산 접합 공정을 통해 제조되어 고밀도, 균일한 필름 형성 및 긴 수명을 보장합니다. 연구 및 산업 응용 분야의 요구를 충족시키기 위해 맞춤형 크기, 두께 및 백플레인 구조를 제공합니다. 문의하기.
고융점 금속간화합물 스퍼터링 타겟
탁월한 고온 내성 및 산화 저항성
고밀도, 균일한 필름 형성
맞춤형 크기, 두께 및 백플레인 구조
배치 안정성, 신뢰할 수 있는 스퍼터링 성능
장수명 타겟, 산업용 대량 생산에 적합
타겟 본딩 지원
회전 타겟 및 맞춤형 열 관리 설계 지원
분야 고온 기능성 필름 제조: 항공우주 및 산업용 고온 박막 증착에 사용됩니다.
내산화 코팅: 금속 또는 세라믹 표면의 산화 및 부식 저항성 향상.
전자 복합 필름: 전도성 필름, 차단층 또는 기능성 전자 필름 증착에 사용됩니다.
열 보호막 및 보호 코팅: 열 차단 코팅, 가스 터빈 및 고온 부품 표면 보호에 사용됩니다.
Q1: NbSi2 스퍼터링 타겟은 어떻게 포장되나요?
A1: 타겟은 충격 방지 외부 박스에 밀봉 또는 진공 포장되어 운송 중 손상이나 산화가 발생하지 않도록 합니다.
Q2: 타겟에 대해 어떤 가공 및 맞춤화 공정이 지원되나요?
A2: 고온 압착 소결, CNC 정밀 가공, 표면 연삭 및 연마, 백플레이트 확산 접합, 맞춤형 회전 타겟 서비스를 제공합니다.
Q3: NbSi2 스퍼터링 타겟은 어떻게 보관해야 하나요?
A3: 타겟 성능 안정성 유지를 위해 습기 및 산화성 가스를 피하고 건조하고 통풍이 잘되며 빛을 차단한 환경에서 보관하는 것이 좋습니다.
Q4: NbSi2 스퍼터링 타겟은 어느 정도의 순도 수준을 달성할 수 있나요?
A4: 99.5% 고순도 타겟을 제공하며, 완전한 조성 분석 보고서와 분석 증명서(COA)를 함께 제공합니다. 각 배치에는 다음이 제공됩니다:
분석 증명서(COA)
물질안전보건자료(MSDS)
요청 시 제3자 시험 보고서를 제공 가능합니다.
고순도, 고밀도 금속간 화합물 스퍼터링 타겟 공급업체
고온 및 내산화성 응용 분야에 대한 풍부한 경험
크기, 두께, 백플레이트 구조
맞춤
제작 가능
연구 및 산업 생산에 적합한 안정적인 배치 생산
타겟 성능 추적성을 보장하는 완벽한 테스트 시스템
스퍼터링 공정 가이드 및 응용 조언을 제공하는 기술
팀
안전하고 신뢰할 수 있는 포장을 보장하는 광범위한 글로벌 배송 경험
화학식: NbSi₂
분자량: 149.08 g/mol
외관: 회색의 고밀도 대상 물질, 원통형 또는 디스크 모양
밀도: ≈ 6.35g/cm³
녹는점: 약 2030 ℃
결정 구조: 정사면체(C40형 구조)
내부 포장: 오염 및 습기 방지를 위해 진공 밀봉 봉지에 포장 후 박스에 담습니다.
외부 포장: 크기와 무게에 따라 골판지 상자 또는 목재 크레이트를 선택합니다.
