ニオブシリサイド

ニオブシリサイドスパッタリングターゲット概要

ニオブシリサイドスパッタリング
ターゲット

は

、優れた耐熱性、耐酸化性、機械的安定性を備えた高融点金属間化合物ターゲットであり、高温機能膜および複合膜の成膜に適しています。主に高温機能膜、耐酸化性コーティング、複合電子膜、耐熱保護膜の作製に使用されます。

当社は円形、矩形、回転式など様々な仕様のNbSi₂ターゲットを提供しており、純度は最大99.5%です。ターゲットはホットプレス、真空焼結、または高温拡散接合プロセスで製造され、高密度、均一な成膜性、長寿命を実現しています。研究用途から産業用途まで、お客様のニーズに応じたカスタムサイズ、厚さ、バックプレーン構造に対応可能です。 お問い合わせください。

製品の特徴

高融点金属間化合物スパッタリングターゲット
優れた耐熱性・耐酸化性
高密度で均一な成膜性
サイズ・厚さ・バックプレーン構造のカスタマイズ対応
ロット間安定性、信頼性の高いスパッタリング性能
長寿命ターゲット、産業用量産に適す
ターゲットボンディング対応
回転ターゲット及びカスタマイズ熱管理設計対応

ニオブシリサイドスパッタリングターゲットの応用例

高温機能性薄膜形成：航空宇宙・産業分野における高温薄膜成膜に利用
耐酸化コーティング：金属・セラミック表面の耐酸化性・耐食性向上
電子複合薄膜：導電膜、バリア層、機能性電子薄膜成膜に利用
耐熱保護膜・保護コーティング：耐熱バリアコーティング、ガスタービン及び高温部品表面保護に使用。

よくある

質問Q1: NbSi2スパッタリングターゲットの包装方法は？
A1: 輸送中の損傷・酸化防止のため、耐衝撃外箱にて密封または真空パック包装。

Q2: ターゲットの加工・カスタマイズ対応内容は？
A2: ホットプレス焼結、CNC精密加工、表面研削・研磨、バックプレート拡散接合、カスタム回転ターゲットサービスを提供しています。

Q3: NbSi2スパッタリングターゲットの保管方法は？
A3: ターゲット性能の安定性を維持するため、湿気や酸化性ガスを避け、乾燥した換気良好な遮光環境での保管を推奨します。

Q4: NbSi2スパッタリングターゲットはどの程度の純度レベルを達成できますか？
A4: 99.5%の高純度ターゲットを提供可能です。完全な組成分析報告書と分析証明書（COA）を添付します。各ロットには

以下の書類

を同梱：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
化学物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能です。

当社を選ぶ理由

高純度・高密度金属間化合物スパッタリングターゲットのサプライヤー
高温・耐酸化用途における豊富な実績
サイズ・厚さ・バックプレート構造の
カスタマイズ
対応
安定したバッチ生産体制（研究開発～産業製造まで対応）
完全な試験システムによるターゲット性能のトレーサビリティ保証
技術
チームによるスパッタリングプロセス指導・応用アドバイス
豊富な国際輸送実績と安全確実な包装