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텅스텐 실리사이드

Chemical Name:
텅스텐 실리사이드
Formula:
WSi2
Product No.:
741400
CAS No.:
12039-88-2
EINECS No.:
234-909-0
Form:
스퍼터링 타겟
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
741400ST001 WSi2 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
741400ST002 WSi2 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
741400ST003 WSi2 99.5% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
741400ST004 WSi2 99.5% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
741400ST005 WSi2 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
741400ST001
Formula
WSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
741400ST002
Formula
WSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
741400ST003
Formula
WSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
741400ST004
Formula
WSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Product ID
741400ST005
Formula
WSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

텅스텐 실리사이드 스퍼터링 타겟 개요

텅스텐 실리사이드 스퍼터링 타겟은 고성능 박막 증착 응용 분야를 위해 설계된 복합 타겟 재료입니다. 텅스텐의 높은 융점과 실리콘의 화학적 안정성을 결합하여 열 안정성, 저항 제어 능력 및 필름 균일성이 우수하며 마이크로 전자 장치, 저항성 필름 및 경질 보호 필름에 매우 적합합니다.

우리는 원형, 직사각형 및 다양한 복합 구조를 포함하여 다양한 크기와 모양의 텅스텐 실리사이드 스퍼터링 타겟을 제공 할 수 있으며 다양한 PVD 공정 요구 사항을 충족하는 맞춤형 서비스를 지원할 수 있습니다. 사용 중에 궁금한 점이 있으시면 언제든지 저희에게 연락하시면 포괄적 인 기술 지원판매 후 서비스.

제품 주요 내용

순도: 99.5%
고밀도 구조로 안정적인 스퍼터링 공정과 균일한 필름 보장
높은 경도와 강한 내식성으로 열악한 환경에 적합함
고객 맞춤형 고객의 요구에 따른 크기, 모양, 홀 위치 또는 백플레인 설계
박막 저항기 및 배리어 층에 적합한 우수한 저항 제어 성능

텅스텐 실리사이드 스퍼터링 타겟의 응용 분야

마이크로 전자 장치: 금속 확산을 방지하고 소자 신뢰성을 향상시키기 위한 배리어 층 또는 층간 재료로 사용됩니다
박막 저항기: 안정적인 저항률과 우수한 온도 계수를 가진 정밀 저항 필름에 사용
하드 코팅: 공구, 금형 등의 표면에 마모 및 부식 방지 기능 제공
MEMS/센서: 디바이스 성능 및 수명 향상을 위한 기능성 필름으로 사용

보고서

당사는 다음을 제공합니다 물질안전보건자료(MSDS), 분석 증명서(COA) 및 각 배치의 WSi₂ 스퍼터링 타겟에 대한 관련 테스트 보고서를 제공하고, 제품이 품질 및 안전 표준을 충족하도록 고객이 지정한 타사 테스트 요구 사항을 지원합니다.

분자식: WSi₂
분자량: 240.01 g/mol
외관: 회색-검정색 금속 광택 세라믹 타겟, 조밀하고 평평한 표면
밀도: 약 9.3g/cm³(이론 밀도에 근접)
융점: 약 2,160°C
결정 구조: 사면체

내부 포장: 오염과 습기를 방지하기 위해 진공 밀봉된 백 및 박스 포장.

외부 포장: 크기와 무게에 따라 선택된 상자 또는 나무 상자.

SKU 741400ST Category 브랜드:

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