酸化セリウム

酸化セリウムスパッタリングターゲット 概要

酸化セリウムスパッタリングターゲットは、高性能薄膜成膜プロセス用に開発された先端セラミック材料です。化学的安定性、耐熱性、光学特性に優れ、透明導電膜、光学コーティング、ガスセンサー、バリア層などの最先端分野で広く使用されています。

弊社では、様々な純度やサイズの仕様を提供し、円形、長方形、カスタマイズ構造に対応し、様々な実験や大量生産のニーズにお応えします。また、アフターサービスも万全です。使用に関するご質問は、お気軽に ご連絡ください。.

製品ハイライト

純度：99.9
緻密な構造、優れたフィルムの均一性と密着性
直径、厚さ、基材はご要望に応じてカスタマイズ可能
高い耐熱性、強い化学的安定性、過酷な環境でのスパッタリングプロセスに適しています。
ターゲット結合サービスも提供可能

酸化セリウムスパッタリングターゲットの用途

光学コーティング：酸化セリウムスパッタリングターゲットは、反射膜、反射防止膜またはフィルター膜として使用され、特に紫外および可視光帯域の光学部品に適しています。
透明電子デバイス：透明電極、酸化物半導体膜などの製造に使用される。
ガスセンサー：CeO2の酸素貯蔵特性により、高感度ガスセンサーの主要材料となる。
バリア層および界面工学: 磁気ストレージや半導体デバイスにおいて、デバイスの安定性を向上させるためのバッファー層や界面層として使用される。

レポート

製品の各バッチには、分析証明書（COA）、製品安全データシート（MSDS）が付属しており、お客様が必要とする第三者試験報告書をサポートします。また、ご使用中にご心配がないよう、包括的なアフターサービスを提供しています。