窒化ニオブスパッタリング
ターゲット
は
高硬度、優れた導電性、優れた耐熱性を備えたセラミックターゲットであり、高密着性、耐摩耗性、機能性薄膜の作製に特化して設計されています。主に硬質コーティング、超電導薄膜、電気機能性薄膜、高温保護層の作製に使用されます。
当社は純度99.5%までの高密度NbNターゲットを製造可能で、円形、矩形、回転ターゲットなど様々な形状に対応します。ターゲットはホットプレス、熱間等方性プレス(HIP)、真空焼結プロセスで製造でき、スパッタリング安定性と放熱性能を確保するための専門的なバックプレートボンディングサービスを提供しています。技術サポート
についてはお問い合わせください。
高密度ターゲット構造
優れた耐摩耗性・耐熱性
純度選択可能・厳格な不純物管理
カスタムサイズ・形状対応
優れた膜均一性
安定したスパッタリングレート
バックプレートボンディング
対応
ハードコーティング形成:切削工具、金型、機械部品向け高耐磨耗性保護膜の成膜。超電導薄膜製造:低温超電導特性を有するNbN薄膜の形成に適する。
電子・マイクロ電子部品:バリア層やコンタクト層などの電気機能性薄膜の作製に使用。
高温環境保護層:高温設備・部品における耐熱・耐食コーティング成膜に使用。
Q1:NbNスパッタリングターゲットの標準包装方法は?
A1:各ターゲットは真空密封され、耐衝撃性外箱を装備。輸送中の表面清浄度・無割れを保証。
Q2:提供可能な加工方法は?
A2: HIP緻密化、ホットプレス焼結、精密機械加工、研削・研磨、ターゲットとバックプレーン間の拡散接合サービスを提供しています。
Q3: このターゲットの保管方法は?
A3: ターゲットの表面状態とスパッタリング安定性を確保するため、湿気や腐食性ガスを避け、乾燥した環境での保管をお勧めします。
Q4: NbNターゲットの達成可能な純度レベルは?
A4: 99.5%純度グレードを提供可能。成分分析報告書を添付します。
報告書
成分分析報告書(ICP、XRF)
XRD相構造分析
表面粗さ試験
密度・充填密度試験
寸法・公差検査証明書
RoHS、REACH等の安全適合証明書
認証書(COA)
当社を選ぶ理由
セラミック・耐火物ターゲット調製における豊富な専門経験
研究開発から量産まで対応する多様なプロセスルート
厳格な純度・構造管理による安定した薄膜性能
グローバルサプライチェーンと迅速な納品体制
専門技術チームによる薄膜プロセスパラメータの参考提供
カスタマイズ可能なターゲット組成・形状・バックプレーン構造
光電子・半導体・コーティング業界で信頼される確固たる実績
化学式NbN
分子量: 106.91 g/mol
外観黒色の緻密なターゲット材
密度: ≈ 8.47 g/cm³
融点約 2580
結晶構造面心立方構造
内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。