Nitruro di niobio

Panoramica sui target di sputtering in nitruro di niobio

I target di sputtering
in nitruro di niobio
sono target ceramici con elevata durezza, eccellente conduttività e resistenza superiore alle alte temperature, progettati specificamente per la preparazione di film funzionali, resistenti all’usura e ad alta adesione. Sono utilizzati principalmente per la preparazione di rivestimenti duri, film sottili superconduttori, film elettricamente funzionali e strati protettivi ad alta temperatura.

Siamo in grado di produrre target NbN ad alta densità con una purezza fino al 99,5%, supportando varie geometrie come target circolari, rettangolari e rotanti. I target possono essere preparati utilizzando processi di pressatura a caldo, pressatura isostatica a caldo (HIP) o sinterizzazione sotto vuoto, e offriamo servizi professionali di incollaggio di piastre posteriori per garantire la stabilità della sputtering e le prestazioni di dissipazione del calore. Contattateci
per assistenza tecnica.

Caratteristiche principali del prodotto

Struttura del target ad alta densità
Eccellente resistenza all’usura e alle alte temperature
Purezza selezionabile, rigoroso controllo delle impurità
Dimensioni e forme personalizzate disponibili
Eccellente uniformità del film
Velocità di sputtering stabile
Incollaggio
della piastra posteriore disponibile

Applicazioni dei bersagli di sputtering in nitruro di niobio

Preparazione di rivestimenti duri: deposizione di film protettivi altamente resistenti all’usura per utensili da taglio, stampi e parti meccaniche. Produzione di film sottili superconduttori: adatto per la preparazione di film NbN con proprietà superconduttrici a bassa temperatura.
Componenti elettronici e microelettronici: utilizzati per la fabbricazione di film sottili elettricamente funzionali come strati barriera e strati di contatto.
Strati di protezione ambientale ad alta temperatura: utilizzati per la deposizione di rivestimenti resistenti al calore e alla corrosione in apparecchiature e componenti ad alta temperatura.

Domande frequenti

D1: Qual è il metodo di imballaggio standard per i target di sputtering NbN?
R1: Ogni target è sigillato sottovuoto e dotato di una scatola esterna antiurto per garantire che la superficie rimanga pulita e priva di crepe durante il trasporto.

D2: Quali metodi di lavorazione offrite?
A2: Supportiamo servizi di densificazione HIP, sinterizzazione a caldo, lavorazione di precisione, molatura e lucidatura e saldatura per diffusione tra il target e il backplane.

D3: Come deve essere conservato questo target?
A3: Si consiglia di conservarlo in un ambiente asciutto, evitando umidità e gas corrosivi, per garantire le condizioni della superficie del target e la stabilità dello sputtering.

D4: Quale livello di purezza può raggiungere il target NbN?
A4: È disponibile un grado di purezza del 99,5%, con relativi rapporti di analisi dei componenti.

Rapporti

Rapporto di analisi dei componenti (ICP, XRF)
Analisi della struttura di fase XRD
Test di rugosità superficiale
Test di densità e densità di impacchettamento
Certificato di ispezione dimensionale e di tolleranza
RoHS, REACH e altri documenti di conformità alla sicurezza
Certificato di autorizzazione (COA)

Perché scegliere noi?

Vasta esperienza nella preparazione di target in ceramica e materiali refrattari
Molteplici percorsi di processo per soddisfare le esigenze di ricerca e produzione di massa
Il rigoroso controllo della purezza e della struttura garantisce prestazioni stabili del film
Supporto per la catena di fornitura globale e consegna rapida
Il team tecnico professionale è in grado di fornire riferimenti sui parametri di processo del film
Formulazioni, forme e strutture del backplane personalizzabili
Reputazione stabile, apprezzata dai clienti nei settori dell’optoelettronica, dei semiconduttori e dei rivestimenti