フッ化カルシウム

フッ化カルシウムスパッタリングターゲット概要

フッ化カルシウム

スパッ

タ

リング

ターゲット

は

、物理的気相成長（PVD）技術に使用される高純度・高密度のセラミックターゲットです。主に、優れた光学特性と化学特性を備えたフッ化カルシウム薄膜を基板上に堆積させるために用いられ、紫外線光学
素子、半導体
機能層、特殊コーティングの製造における重要な基材として機能します。

当社は高純度から超高純度グレードまでのフッ化カルシウムスパッタリングターゲットの提供を専門としています。各種サイズ・形状のカスタマイズ
に加え、高強度金属バッキングプレート接合
サービスも対応可能です。カスタマイズソリューションや性能パラメータについては、直ちに技術チームまでお問い合わせ
ください。

製品の特徴

超高純度
卓越した密度と微細構造均一性
極めて低い紫外線吸収率
高表面仕上げの精密加工
優れた耐熱衝撃性とスパッタリング安定性

フッ化カルシウムスパッタリングターゲットの応用分野

高性能光学コーティング：
紫外線から赤外線スペクトル全域における反射防止コーティング、保護膜、高反射率コーティングの形成に使用。高エネルギーレーザーシステム、天文観測機器、先進リソグラフィ装置の光学部品に広く適用。

半導体・マイクロエレクトロニクス：
特定の半導体プロセスにおける絶縁層またはパッシベーション層材料として機能。その薄膜は優れた誘電特性と化学的安定性を示し、デバイスの信頼性を向上させる。

レーザー部品・窓：
高損傷閾値レーザー窓、レンズ、非線形光学デバイスの製造に、フッ化カルシウム薄膜の直接堆積または多層構造の作製に使用される。

研究・特殊機能性コーティング：
新規低屈折率材料、超硬質コーティング、耐放射線コーティングなど最先端分野の探索・開発における基盤ターゲット材料として機能します。

よくある

質問Q1: ターゲットの純度は最終成膜層の性能にどの程度影響しますか？
A1: 純度は決定的要因の一つです。過剰な金属不純物や酸素含有量は紫外線帯域での吸収損失を著しく増加させ、欠陥を誘発する可能性があり、成膜層のレーザー損傷閾値や長期安定性に影響を及ぼします。

Q2: フッ化カルシウムターゲットはなぜプロセス中に反応性スパッタリングを必要とする場合がありますか？
A2: 膜の化学量論比（カルシウム対フッ素比）を精密に制御し、潜在的なフッ素損失を補償するため、通常はフッ素含有反応性ガス（例：CF₄）をスパッタリングガス（例：アルゴン）に少量導入し、最適な光学特性を持つフッ化カルシウム膜を形成します。

Q3: このターゲット材料は導電性がありますか？ スパッタリング装置への取り付け方法と使用方法は？
A3: フッ化カルシウムは絶縁体であり、電気を伝導しません。したがって、マグネトロンスパッタリングでは高周波電源を使用し、効果的な冷却を確保するためバッキングプレートを確実に接合する必要があります。取り付け時には、ターゲットと装置ベース間の接触面が清潔で平坦であることを確認し、効率的な熱伝達を保証してください。

Q4: このターゲットを使用して成膜した薄膜は通常どのような色を示しますか？
A4: 高品質なフッ化カルシウム薄膜は可視光域でほぼ完全に透明であり、識別可能な色調はありません。薄膜が淡黄色または他の色調を示す場合、化学量論比の偏差や汚染を示唆する可能性があり、プロセスパラメータの最適化が必要です。

報告書

各バッチには以下が付属します：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
安全データシート（MSDS）
サイズ検査報告書
第三者試験報告書はご要望に応じて提供可能

当社を選ぶ理由

当社は半導体
向け先進光学
コーティング及びセラミックターゲットの研究開発・製造を専門とし、高純度フッ化物材料の製造における課題とプロセス要件に関する深い専門知識を有しています。独自の精製技術とホットプレス焼結技術により、ターゲットの純度・密度・微細構造において卓越したバランスを実現しています。