L’afnio silicizzato è un materiale ad alte prestazioni progettato per materiali elettronici, processi di rivestimento, metallurgia delle polveri e sviluppo di film sottili funzionali. Con una purezza del 99,5%, presenta eccellenti caratteristiche di stabilità termica, conducibilità elettrica e resistenza all’ossidazione, che lo rendono ampiamente utilizzato nei materiali strutturali ad alta temperatura e nei composti intermetallici ad alte prestazioni.
Offriamo polvere di afnio siliciuro in una varietà di dimensioni delle particelle e possiamo personalizzare la classificazione delle dimensioni delle particelle e il trattamento superficiale per soddisfare le esigenze dei clienti. Forniamo anche un’assistenza post-vendita completa: sentitevi liberi di contattarci per qualsiasi domanda.
Purezza: 99,5%
Composto intermetallico ad alto punto di fusione con forte stabilità
Eccellente conducibilità elettrica e termica, adatto per materiali funzionali elettronici
Dimensione delle particelle e trattamento superficiale personalizzabili
Adatto a una varietà di processi, tra cui componenti elettronici, rivestimenti a barriera termica e metallo-ceramica
Materiali elettronici: Adatto per gate metallici, strati tampone di elettrodi e strutture di interconnessione.
Metallurgia delle polveri: Utilizzata per migliorare le prestazioni di leghe ad alta temperatura, ceramiche strutturali e compositi.
Tecnologie di rivestimento: Adatto per rivestimenti resistenti all’ossidazione ad alta temperatura, rivestimenti a barriera termica e film protettivi. Ricerca e sviluppo: Utilizzato per ricerche all’avanguardia nella preparazione di composti intermetallici, materiali superduri, materiali funzionali a film sottile e altri argomenti all’avanguardia.
Forniamo un Certificato di analisi (COA), una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS) e i relativi rapporti di prova delle prestazioni fisiche e chimiche per ogni spedizione. Offriamo anche servizi di test di terze parti per garantire che i materiali soddisfino gli standard per la ricerca scientifica o le applicazioni industriali.
Formula molecolare: HfSi₂
Peso molecolare: 234,65 g/mol
Aspetto: Polvere metallica grigio-nera con granulometria uniforme
Densità: Circa 8,0 g/cm³ (vicina alla densità teorica)
Punto di fusione: Circa 1.830°C
Struttura cristallina: Ortorombica (struttura C49)
Imballaggio interno: Sacchetti sigillati sottovuoto e imballati per evitare la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: Cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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