Lega di alluminio al nichel ittrio

Target di sputtering in lega di ittrio-nichel-alluminio Panoramica

I target di sputtering
in lega di ittrio-nichel-alluminio
sono target in lega di ittrio-nichel-alluminio ad alta purezza ampiamente utilizzati nella fabbricazione di film sottili funzionali, materiali magnetici e dispositivi elettronici.

Offriamo lega di ittrio-nichel-alluminio in varie specifiche e gradi di purezza per soddisfare le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili. Contattateci
per soluzioni personalizzate.

Caratteristiche principali del prodotto

Elevata purezza, basso contenuto di impurità
Struttura uniforme e densa, prestazioni di sputtering stabili
Eccellente uniformità della lega
Elevata stabilità termica
Controllo preciso della composizione chimica
Dimensioni e forme personalizzabili
Libera scelta delle piastre di incollaggio e di supporto
Fornitura a lungo termine, qualità affidabile

Applicazioni dei target di sputtering in lega di ittrio-nichel-alluminio

Produzione di film sottili funzionali: utilizzati per la deposizione di film sottili elettronici e ottici, garantiscono l’uniformità del film.
Materiali magnetici: utilizzati in film sottili magnetici e sensori magnetici, migliorano la stabilità delle prestazioni.
Dispositivi elettronici: migliorano l’affidabilità e la conduttività nella produzione di dispositivi microelettronici.
Materiali per la ricerca scientifica: forniscono target di sputtering ad alta purezza per la ricerca sui materiali a film sottile.

Domande frequenti

D1: Qual è il range di purezza dei target di sputtering YNiAl?
A1: I nostri target raggiungono una purezza superiore al 99,9%, garantendo prestazioni stabili durante il processo di deposizione di film sottili.

D2: Quali forme e dimensioni dei target possono essere personalizzate?
A2: Siamo in grado di fornire target rotondi, quadrati e dimensioni e forme specificate dal cliente per adattarsi a diverse apparecchiature di sputtering.

D3: I target per sputtering sono stabili durante la deposizione ad alta temperatura?
R3: I target sono densi e uniformi, resistenti ai processi di sinterizzazione e deposizione ad alta temperatura e hanno prestazioni affidabili.

D4: Quali sono i requisiti di imballaggio e trasporto per i target?
R4: Utilizziamo imballaggi a prova di umidità e urti per garantire che i target rimangano intatti e facilitare il trasporto e lo stoccaggio.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Siamo specializzati nella produzione di target di sputtering YNiAl ad alta purezza, con un rigoroso controllo di qualità e servizi personalizzati per garantire prestazioni stabili e affidabili dei target, soddisfacendo le esigenze della ricerca scientifica e della deposizione industriale di film sottili.