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イットリウム・ニッケル・アルミニウム合金

Chemical Name:
イットリウム・ニッケル・アルミニウム合金
Formula:
YNiAl
Product No.:
39281300
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
39281300ST001 YNiAl (60/20/20at%) 99.9% (REO) Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
39281300ST001
Formula
YNiAl (60/20/20at%)
Purity
99.9% (REO)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

イットリウムニッケルアルミニウム合金スパッタリングターゲット概要

イットリウムニッケルアルミニウム合金
スパッタリングターゲット

高純度のイットリウムニッケルアルミニウム合金ターゲットであり、機能性薄膜、磁性材料、電子デバイスの製造に広く使用されています。

当社は、科学研究および産業用薄膜成膜のニーズに応えるため、様々な仕様と純度グレードのイットリウムニッケルアルミニウム合金を提供しています。カスタマイズソリューションについてはお問い合わせください

製品特長

高純度・低不純物含有量
均一で緻密な構造・安定したスパッタリング性能
優れた合金均一性
高い熱安定性
精密な化学組成制御
サイズ・形状のカスタマイズ対応
ボンディングプレート・バッキングプレートの自由選択
長期安定供給・確かな品質

イットリウムニッケルアルミニウム合金スパッタリングターゲットの用途

機能性薄膜製造:電子・光学薄膜成膜に使用され、膜均一性を確保。
磁性材料:磁性薄膜や磁気センサーに使用され、性能安定性を向上。
電子デバイス:マイクロエレクトロニクスデバイス製造における信頼性と導電性を強化。
科学研究材料:薄膜材料研究向け高純度スパッタリングターゲットを提供。

よくある質問

Q1: YNiAlスパッタリングターゲットの純度範囲は?
A1: 当社のターゲットは99.9%以上の純度を達成し、薄膜成膜プロセス中の安定した性能を保証します。

Q2: カスタマイズ可能なターゲットの形状とサイズは?
A2: 丸形ターゲット、角形ターゲット、およびお客様の指定サイズ・形状を提供し、様々なスパッタリング装置に対応します。

Q3: 高温成膜時のターゲットの安定性は?
A3: 高密度で均一な構造のため、高温焼結・成膜プロセスに耐え、信頼性の高い性能を発揮します。

Q4: ターゲットの包装・輸送要件は?
A4: 防湿・耐衝撃包装を採用し、輸送・保管時の完全性を確保します。

報告書

各ロットに付属:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供

)当社を選ぶ理由

当社は高純度YNiAlスパッタリングターゲットの製造を専門とし、厳格な品質管理とカスタマイズサービスにより、安定した信頼性の高いターゲット性能を保証。科学研究および産業用薄膜成膜のニーズに対応します。

化学式YNiAl
分子量: 152.43 g/mol
外観銀灰色金属粉
密度:~6.8 g/cm³
融点:~1,200 °C (近似)
結晶構造六方晶(MgZn₂型ラーベス相)

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、段ボール箱または木製クレートを選択します。

資料

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