Zirconato di litio (ossido di zirconio)

Target di sputtering in zirconato di litio Panoramica

I target di sputtering
in zirconato di litio
sono materiali ceramici comunemente utilizzati per la deposizione di film sottili tramite tecniche di sputtering. Il Li2ZrO3 è un ossido complesso a base di litio noto per la sua eccellente stabilità chimica, l’elevata resistenza termica e la buona conduttività ionica.

Offriamo target di sputtering in zirconato di litio ad alta purezza personalizzabili in varie purezze, dimensioni, forme e metodi di fabbricazione per soddisfare requisiti specifici. Per qualsiasi domanda, non esitate a contattarci.

Caratteristiche principali del prodotto

Alta purezza: ≥99,9%
Alta densità
Stabilità della fase monoclina
Dimensioni personalizzate: disponibili target circolari, rettangolari o di altre forme
Legami e supporti: piastre di supporto metalliche opzionali e servizio di incollaggio
dei target

Applicazioni del target di sputtering in zirconato di litio

Batterie agli ioni di litio a film sottile:
come componente stabile negli strati di elettrolita allo stato solido o nei rivestimenti protettivi.
Sensori elettrochimici:
per il rilevamento di gas e dispositivi ionoselettivi grazie alla sua buona conduttività ionica.
Materiali per la produzione di trizio nella fusione nucleare:
utilizzati nei mantelli di produzione grazie al loro contenuto di litio e alla stabilità alle alte temperature.
Stoccaggio di isotopi di idrogeno:
fungono da matrice ceramica per l’assorbimento sicuro e reversibile degli isotopi di idrogeno.

Domande frequenti

D1: Per quali tipi di film sottili viene utilizzato principalmente il bersaglio di sputtering in zirconato di litio?
A1: Questo target viene utilizzato principalmente per la preparazione di film sottili funzionali di ossido di zirconato di litio, ampiamente applicati negli elettroliti allo stato solido, nei materiali per batterie al litio e nella ricerca sui film sottili ceramici ad alta temperatura.

D2: Quali sono le caratteristiche del materiale zirconato di litio nella deposizione di film sottili?
A2: Questo materiale ha una buona stabilità chimica e strutturale, che consente la formazione di strutture di film sottili uniformi e controllabili durante la polverizzazione, garantendo prestazioni stabili del film.

Q3: Per quali processi di deposizione è adatto questo bersaglio di sputtering?
A3: I bersagli di sputtering in zirconato di litio possono essere utilizzati in processi PVD come lo sputtering RF e lo sputtering DC e sono adatti per apparecchiature di laboratorio e su scala pilota.

Q4: Quali precauzioni devono essere prese durante l’uso e la conservazione dei bersagli di sputtering in zirconato di litio?
A4: Si raccomanda di operare e conservare in un ambiente asciutto e sigillato, evitando l’esposizione prolungata all’aria per garantire la stabilità del target durante il processo di deposizione e la qualità del film sottile. Rapporti
Ogni lotto di Li2ZrO3 è fornito con un certificato di analisi (COA)
e una scheda di sicurezza dei materiali (MSDS).
Su richiesta è possibile fornire analisi di terze parti.
Rapporti di caratterizzazione opzionali (XRD, SEM, ICP) su richiesta.