ジルコン酸リチウム（酸化ジルコニウムリチウム）

ジルコニウム酸リチウムスパッタリングターゲット概要

ジルコニウム酸リチウムスパッタリング

ターゲットは、

スパッタリング技術による薄膜成膜に広く用いられるセラミック材料です。Li₂ZrO₃はリチウム系複合酸化物であり、優れた化学的安定性、高い耐熱性、良好なイオン伝導性で知られています。

当社は、特定の要件を満たすため、様々な純度、サイズ、形状、製造方法によるカスタマイズ可能な高純度リチウムジルコネートスパッタリングターゲットを提供しています。ご質問がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

製品の特長

高純度：≥99.9%
高密度
単斜晶相安定性
カスタム寸法：円形、矩形、その他形状のターゲット対応
ボンディング・バッキング：金属バッキングプレートオプション及びターゲットボンディング
サービス

リチウムジルコネートスパッタリングターゲットの用途

薄膜リチウムイオン電池：
固体電解質層や保護コーティングにおける安定成分として
電気化学センサー：
優れたイオン伝導性によるガス検知・イオン選択性デバイス向け
核融合におけるトリチウム増殖材：
リチウム含有量と高温安定性により増殖ブランケットに使用。
水素同位体貯蔵：
安全かつ可逆的な水素同位体吸収のためのセラミックマトリックスとして機能。

よくある質問

Q1: ジルコニウム酸リチウムスパッタリングターゲットは主にどのような薄膜に使用されますか？
A1: 本ターゲットは主に機能性ジルコニウム酸リチウム薄膜の作製に使用され、固体電解質、リチウム電池材料、高温セラミック薄膜研究に広く応用されています。

Q2: 薄膜成膜におけるジルコニウム酸リチウム材料の特徴は？
A2: 本材料は優れた化学的・構造的安定性を有し、スパッタリング時に均一で制御可能な薄膜構造を形成でき、安定した膜性能を保証します。

Q3: このスパッタリングターゲットはどの成膜プロセスに適していますか？
A3: ジルコニウム酸リチウムスパッタリングターゲットは、RFスパッタリングやDCスパッタリングなどのPVDプロセスで使用可能で、実験室規模からパイロットスケールの装置に適しています。

Q4: ジルコニウム酸リチウムスパッタリングターゲットの使用・保管時の注意事項は？
A4: 乾燥した密閉環境での操作・保管を推奨します。空気への長時間の暴露を避け、成膜プロセス中のターゲット安定性と薄膜品質を確保してください。

報告書

Li₂ZrO₃の各ロットには分析証明書（COA）
と安全データシート（MSDS）
が付属します。
第三者機関による分析はご要望に応じて提供可能です。

オプションの特性評価報告書（XRD、SEM、ICP）はご要望に応じて作成いたします。