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Siliciuro di niobio

Chemical Name:
Siliciuro di niobio
Formula:
NbSi2
Product No.:
411400
CAS No.:
12034-80-9
EINECS No.:
234-812-3
Form:
Bersaglio di sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
411400ST001 NbSi2 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
411400ST002 NbSi2 99.5% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
411400ST001
Formula
NbSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
411400ST002
Formula
NbSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm

Panoramica sui target di sputtering in siliciuro di niobio

I target di sputtering
in siliciuro di niobio
sono target in composti intermetallici ad alto punto di fusione con eccellente resistenza alle alte temperature, resistenza all’ossidazione e stabilità meccanica, che li rendono adatti alla deposizione di film funzionali e film compositi ad alta temperatura. Sono utilizzati principalmente per la preparazione di film funzionali ad alta temperatura, rivestimenti resistenti all’ossidazione, film elettronici compositi e film di protezione termica.

Offriamo target NbSi₂ con varie specifiche, inclusi target circolari, rettangolari e rotanti, con una purezza fino al 99,5%. I target sono preparati utilizzando processi di pressatura a caldo, sinterizzazione sotto vuoto o saldatura per diffusione ad alta temperatura, che garantiscono un’elevata densità, una formazione uniforme del film e una lunga durata. Sono disponibili dimensioni, spessori e strutture del backplane personalizzati per soddisfare le esigenze della ricerca e delle applicazioni industriali. Contattateci.

Caratteristiche principali del prodotto

Target di sputtering in composti intermetallici ad alto punto di fusione
Eccellente resistenza alle alte temperature e all’ossidazione
Alta densità, formazione uniforme del film
Dimensioni, spessore e struttura del backplane personalizzabili
Stabilità del lotto, prestazioni di sputtering affidabili
Target di lunga durata, adatti alla produzione industriale di massa
Supporta l’incollaggio dei target
Supporta target rotanti e progetti di gestione termica personalizzati

Applicazioni dei target di sputtering in siliciuro di niobio

Preparazione di film funzionali ad alta temperatura: utilizzati per la deposizione di film sottili ad alta temperatura in applicazioni aerospaziali e industriali.
Rivestimenti resistenti all’ossidazione: migliorano la resistenza all’ossidazione e alla corrosione delle superfici metalliche o ceramiche.
Film compositi elettronici: utilizzati per film conduttivi, strati barriera o deposizione di film elettronici funzionali.
Pellicole di protezione termica e rivestimenti protettivi: utilizzati per rivestimenti barriera termica, turbine a gas e protezione delle superfici dei componenti ad alta temperatura.

Domande frequenti

D1: Come vengono confezionati i target di sputtering NbSi2?
R1: I target sono sigillati o confezionati sottovuoto con scatole esterne antiurto per garantire che non subiscano danni o ossidazione durante il trasporto.

D2: Quali processi di lavorazione e personalizzazione sono supportati per i target?
A2: Offriamo sinterizzazione a caldo, lavorazione di precisione CNC, rettifica e lucidatura superficiale, saldatura per diffusione del piatto posteriore e servizi personalizzati di target rotanti.

D3: Come devono essere conservati i target di sputtering NbSi2?
A3: Si consiglia di conservarli in un ambiente asciutto, ventilato e protetto dalla luce, evitando l’umidità e i gas ossidanti per mantenere la stabilità delle prestazioni del target.

D4: Quale livello di purezza possono raggiungere i target di sputtering NbSi2?
R4: Siamo in grado di fornire target ad alta purezza al 99,5%, insieme a un rapporto completo di analisi della composizione e a un certificato di analisi (COA).

Rapporti

Ogni lotto è accompagnato da:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Su richiesta sono disponibili rapporti di test effettuati da terzi.

Perché scegliere noi?

Fornitore di target di sputtering composti intermetallici ad alta purezza e alta densità
Vasta esperienza in applicazioni ad alta temperatura e resistenti all’ossidazione
Personalizzazione
di dimensioni, spessore e struttura della piastra posteriore disponibile
Produzione in lotti stabile, adatta alla ricerca e alla produzione industriale
Il sistema di test completo garantisce la tracciabilità delle prestazioni del target
Il team tecnico
fornisce assistenza sul processo di sputtering e consigli sull’applicazione
Vasta esperienza nella spedizione globale, che garantisce un imballaggio sicuro e affidabile

Formula chimica: NbSi₂
Peso molecolare: 149,08 g/mol
Aspetto: Materiale bersaglio grigio e denso, cilindrico o a forma di disco.
Densità: ≈ 6,35 g/cm³
Punto di fusione: Circa 2030 ℃
Struttura cristallina: Tetragonale (struttura di tipo C40)

Imballaggio interno: sacchetti sottovuoto e scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.

Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.

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