Alluminato di stronzio (ossido di stronzio e alluminio)

Target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio Panoramica

I target di sputtering
in ossido di alluminio e stronzio
sono target multielemento strutturalmente stabili e depositati in modo uniforme, adatti alla fabbricazione di film sottili funzionali, rivestimenti ottici e materiali elettronici.

Offriamo target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio in varie purezze, densità, dimensioni e tipi strutturali. Possiamo anche assistere i clienti nella conferma dei requisiti di formazione del film, nella selezione dei tipi di target appropriati e fornire consulenza su spedizione, imballaggio, pulizia e debug dell’applicazione. Contattateci
in qualsiasi momento per un preventivo.

Caratteristiche principali del prodotto

Stampaggio a pressione ad alta densità
Buona uniformità del film
Densità ionica stabile
Basso contenuto di impurità
Adatto a vari sistemi di sputtering
Personalizzabile in base alle dimensioni dell’apparecchiatura
Supporta il bonding dei target
Elevata resistenza meccanica, meno soggetto a crepe
Adesione stabile del film

Applicazioni dei target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio

Utilizzato nella preparazione di rivestimenti ottici per migliorare la stabilità del film e la trasmissione della luce.
Applicato a film sottili ceramici funzionali per il rinforzo strutturale e la modifica dei materiali.
Utilizzato come fonte di materiale target per film sottili di ossido composito nella produzione di componenti elettronici.
Adatto per applicazioni di ricerca nella preparazione di film sottili di ossido multicomponente con proprietà speciali.

Domande frequenti

D1: Il target di sputtering in ossido di alluminio e stronzio presenta un’ablazione irregolare dei bordi?
R1: Il target è prodotto utilizzando un processo ad alta densità, che riduce le differenze di usura dei bordi. Tuttavia, i parametri di processo devono comunque essere regolati in base alla potenza dell’apparecchiatura e alla distribuzione del campo magnetico per ottenere uno stato di sputtering più uniforme.

D2: Il target richiede un trattamento antiurto durante il trasporto?
A2: Sì, utilizziamo una struttura protettiva a doppio strato con imbottitura in schiuma e imballaggio sottovuoto per garantire che il target non si rompa o si scheggi durante il trasporto su lunghe distanze.

Q3: Quali fattori influenzano principalmente la durata del target?
A3: Le impostazioni di potenza, l’ambiente sottovuoto, l’effetto di raffreddamento e lo spessore del target influenzano tutti la durata di servizio. È possibile selezionare una dimensione del target più adatta in base alla progettazione del processo.

D4: Questo bersaglio può essere utilizzato per la polverizzazione pulsata in corrente continua o RF?
A4: Sì, questo materiale è adatto a vari metodi di polverizzazione. Siamo in grado di fornire strutture bersaglio e dimensioni di installazione corrispondenti a seconda del tipo di apparecchiatura.

Rapporti

Ogni lotto viene fornito con:
Certificato di analisi (COA)

Scheda tecnica (TDS)

Scheda di sicurezza (MSDS)
Rapporti di test di terze parti disponibili su richiesta

Perché scegliere noi?

Abbiamo capacità di controllo di processo stabili nella produzione di target di ossido multielemento, garantendo un alto grado di uniformità nella densità, nell’uniformità strutturale e nelle prestazioni di deposizione di film sottili dei nostri target di ossido di alluminio e stronzio. In combinazione con un supporto di personalizzazione flessibile, rigorosi test di qualità, metodi di imballaggio professionali e una logistica internazionale stabile, siamo in grado di fornire soluzioni di fornitura di target affidabili e coerenti per i clienti della ricerca e dell’industria, aiutandoli a ottenere risultati di film sottili di qualità superiore.