ストロンチウムアルミナ酸化物
スパッタリングターゲット
構造的に安定し、均一に堆積する多元素酸化物ターゲットであり、機能性薄膜、光学コーティング、電子材料の製造に適しています。
当社は様々な純度、密度、サイズ、構造タイプのストロンチウムアルミナ酸化物スパッタリングターゲットを提供しています。また、膜形成要件の確認、適切なターゲットタイプの選定、輸送・包装・洗浄・アプリケーションデバッグに関するアドバイスも提供可能です。お見積りは随時お問い合わせください
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優れた膜均一性
安定したイオン密度
低不純物含有量
各種スパッタリングシステムに対応
装置サイズに合わせたカスタマイズ可能
ターゲットボンディング対応
高い機械的強度、割れ発生が少ない
安定した膜付着性
光学コーティング製造において、膜安定性と光透過率の向上に使用。
構造強化や材料改質を目的とした機能性セラミック薄膜への応用。
電子部品製造における複合酸化物薄膜のターゲット材料源として使用。
特殊特性を持つ多成分酸化物薄膜の作製における研究用途に適する。
Q1: ストロンチウムアルミナ酸化物スパッタリングターゲットは端部の不均一なアブレーションを起こしますか？
A1: 高密度プロセスで製造されるため、端部の摩耗差は低減されます。ただし、より均一なスパッタリング状態を得るには、装置の出力や磁界分布に応じてプロセスパラメータの調整が必要です。
Q2: 輸送中にターゲットは耐衝撃処理が必要ですか？
A2: はい。長距離輸送中の割れや欠けを防ぐため、発泡緩衝材と真空包装の二重保護構造を採用しています。
Q3: ターゲットの寿命に主に影響する要因は何ですか？
A3: 出力設定、真空環境、冷却効果、ターゲット厚さが寿命に影響します。プロセス設計に基づき適切なターゲットサイズを選択可能です。
Q4: 本ターゲットはパルスDCまたはRFスパッタリングに使用可能ですか？
A4: はい、本材料は各種スパッタリング法に適しています。装置タイプに応じた対応ターゲット構造と取付寸法を提供可能です。
各ロットに付属：
分析証明書（COA）
技術データシート（TDS）
化学物質安全データシート（MSDS）
第三者試験報告書（要請求）
当社は多元素酸化物ターゲットの製造において安定したプロセス制御能力を有し、ストロンチウムアルミナターゲットの密度・構造均一性・薄膜成膜性能において高い一貫性を保証します。柔軟なカスタマイズ対応、厳格な品質検査、専門的な包装方法、安定した国際物流を組み合わせることで、研究機関や産業クライアントに信頼性の高い一貫したターゲット供給ソリューションを提供し、より高品質な薄膜成果の実現を支援します。
化学式SrAl₂O₄（ストロンチウム
分子量: 183.95 g/mol
外観白色～淡緑色のセラミック製スパッタリングターゲット
密度: ~3.56 g/cm³
融点：～1,930 °C (約)
結晶構造単斜晶（β相）または六方晶（α相）
内包装：汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。
外包装：サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。
