La poudre de siliciure de nickel est un disiliciure de nickel de haute pureté largement utilisé dans les dispositifs semi-conducteurs, les couches minces conductrices, les matériaux optoélectroniques, ainsi que dans la recherche et le développement scientifiques.
Nous proposons une poudre de NiSi2 chimiquement stable et de taille uniforme, personnalisable pour répondre aux exigences spécifiques du processus et de l’application. Contactez nous pour obtenir des informations techniques détaillées pour obtenir des informations techniques détaillées.
Disiliciure de nickel de haute pureté
Poudre uniforme
Excellente conductivité électrique
Bonne stabilité thermique
Facile à disperser et à traiter
Cohérence fiable des lots
Spécifications et emballage personnalisables
Semi-conducteurs Appareils : Convient à la fabrication de couches minces et de dispositifs semi-conducteurs, améliorant la conductivité et la stabilité des dispositifs.
Couches minces conductrices : Utilisés pour préparer des films conducteurs et des revêtements fonctionnels, améliorant les performances et la durabilité des appareils électroniques.
Matériaux optoélectroniques Optoélectronique : Convient aux couches minces des dispositifs optoélectroniques, tels que les dispositifs photovoltaïques et les photodétecteurs, améliorant l’efficacité de la conversion photoélectrique.
Recherche scientifique et développement de procédés : Convient aux instituts de recherche pour effectuer des tests de performance de la poudre de disiliciure de nickel, des modifications de matériaux et des expériences sur de nouveaux procédés.
Q1 : La taille des particules de la poudre de NiSi2 peut-elle être personnalisée ?
R1 : Oui, nous proposons des poudres de différentes tailles pour répondre aux exigences des différents processus et applications.
Q2 : La poudre est-elle sujette à l’oxydation ou à la décomposition ?
R2 : La poudre est chimiquement stable dans des conditions sèches et à température ambiante. Un stockage scellé est recommandé pour éviter l’absorption d’humidité.
Q3 : La poudre de NiSi2 convient-elle à la préparation de couches minces de semi-conducteurs ?
R3 : Oui, sa grande pureté et son uniformité sont bénéfiques pour le dépôt de couches minces et l’optimisation des performances des dispositifs.
Q4 : La poudre peut-elle être utilisée dans les matériaux conducteurs et les expériences de recherche scientifique ?
R4 : Oui, elle peut améliorer la conductivité et faciliter les essais de matériaux et le développement de processus dans les instituts de recherche.
Chaque lot est fourni avec :
Un certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (FDS)
Rapports de tests effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous sommes spécialisés dans la recherche et la fourniture de poudre de NiSi₂ de haute pureté, en mettant l’accent sur l’uniformité de la poudre, la stabilité chimique et la compatibilité des processus, fournissant un support matériel fiable pour les dispositifs semi-conducteurs, les couches minces conductrices, les matériaux optoélectroniques et les applications de recherche scientifique.
Formule moléculaire : NiSi₂
Poids moléculaire : 140,75 g/mol
Aspect : Poudre noire ou gris-noir
Densité : Environ 6,51 g/cm³ : Environ 6,51 g/cm³
Point de fusion : Environ 1 500 °C
Point d’ébullition : Point de décomposition : environ 2 000 °C
Structure cristalline : Structure cristalline orthorhombique
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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