Silicium

Présentation des cibles rotatives en silicium

Les cibles rotatives
en silicium
sont des cibles en silicium utilisées dans les processus de pulvérisation cathodique en continu, adaptées aux besoins de dépôt sur de grandes surfaces et pendant de longues durées. Elles sont principalement utilisées dans les écrans d’affichage, les films minces photovoltaïques, les revêtements fonctionnels et les applications de dépôt sous vide connexes.

Nous pouvons fournir des cibles rotatives en silicium de différentes structures et tailles en fonction des exigences de l’équipement, en prenant en charge la communication des processus et l’intégration technique. Veuillez nous contacter
directement pour obtenir des solutions.

Points forts du produit

Structure rotative, utilisation optimale de la cible
Processus de pulvérisation stable et uniforme
Convient à un fonctionnement continu à long terme
Efficace pour la gestion thermique et la dissipation de la chaleur
Compatible avec divers systèmes de pulvérisation à cible rotative
Structure et taille personnalisées prises en charge

Applications des cibles rotatives en silicium

Dépôt de couches minces sur de grandes surfaces :
convient aux processus de dépôt de couches minces sur des substrats de grande surface, contribuant à améliorer l’uniformité des couches et la stabilité du processus.
Procédés de revêtement d’écrans et de panneaux photovoltaïques :
dans la fabrication de panneaux d’affichage et de panneaux photovoltaïques à couche mince, la structure à cible rotative peut répondre aux exigences de production continue pour une cohérence du dépôt.
Préparation de revêtements fonctionnels :
convient à la préparation de films minces fonctionnels électriques, optiques ou protecteurs, répondant aux exigences de performance de différents scénarios d’application.
R&D et validation des processus :
largement utilisé pour optimiser les nouveaux paramètres de processus et étudier le comportement des matériaux, permettant des tests stables dans des conditions de pulvérisation par rotation.

FAQ

Q1 : Quelles sont les caractéristiques d’une cible rotative en silicium par rapport à une cible plane ?
R1 : Une cible rotative participe au pulvérisation par rotation continue, ce qui améliore l’utilisation de la cible et contribue à améliorer l’uniformité du film.

Q2 : Quelle est l’efficacité de la dissipation thermique d’une cible rotative en silicium pendant la pulvérisation ?
R2 : La structure rotative facilite la dissipation thermique et, combinée à une conception de refroidissement raisonnable, elle permet de maintenir un fonctionnement stable du processus de pulvérisation.

Q3 : Quelles sont les exigences en matière d’équipement lors de l’utilisation d’une cible rotative en silicium ?
A3 : Une structure cathodique et un système de refroidissement dédiés à la cible rotative sont nécessaires, et les paramètres spécifiques doivent être compatibles avec le modèle d’équipement.

Q4 : Quelles précautions faut-il prendre lors de l’utilisation d’une cible rotative en silicium ?
A4 : Il est recommandé de fonctionner dans des conditions de vide et d’alimentation stables, et d’installer et d’entretenir la cible conformément aux spécifications de l’équipement.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la fourniture de cibles de pulvérisation rotatives adaptées à chaque application, en mettant l’accent sur la conception structurelle des cibles et la compatibilité des équipements, et en fournissant à nos clients des solutions produits stables et fiables ainsi qu’un support technique efficace.