Silicio I bersagli rotanti sono materiali di sputtering cilindrici progettati per i sistemi di sputtering a magnetrone e per la deposizione di film sottili su grandi superfici. Rispetto ai tradizionali bersagli planari in silicio, i bersagli rotanti garantiscono un maggiore sfruttamento del materiale, un funzionamento continuo più stabile e sono adatti ad applicazioni industriali di rivestimento, tra cui rivestimenti ottici, tecnologie fotovoltaiche, ricerca sui semiconduttori e applicazioni avanzate con film sottili.
Siamo in grado di fornire bersagli rotanti in silicio con diverse strutture e dimensioni in base alle esigenze delle apparecchiature, garantendo la comunicazione di processo e l’integrazione tecnica. Vi invitiamo a contattateci per soluzioni su misura.
I (Si) sono bersagli di sputtering cilindrici ad alta purezza utilizzati nei sistemi di sputtering a magnetrone per i processi di deposizione fisica da vapore (PVD). Il silicio è un semiconduttore e un materiale funzionale ampiamente utilizzato grazie alle sue eccellenti proprietà elettriche, caratteristiche ottiche e stabilità chimica. Nelle applicazioni di sputtering, i bersagli in silicio sono comunemente utilizzati per depositare film sottili a base di silicio destinati a dispositivi elettronici, rivestimenti ottici, tecnologie per l’energia solare e applicazioni di ricerca.
Rispetto ai tradizionali bersagli planari in silicio, i bersagli rotanti offrono un migliore utilizzo del bersaglio e cicli operativi più lunghi, rendendoli adatti a processi di rivestimento ad alta produttività. ULPMAT fornisce bersagli rotanti in silicio ad alta purezza con specifiche personalizzate, tra cui livello di purezza, dimensioni, requisiti di incollaggio e opzioni di imballaggio.
| Parametro | Specifiche |
| Materiale | Silicio (Si) |
| Formula chimica | Si |
| Numero CAS | 7440-21-3 |
| Purezza | 99,999% / 99,95% (La purezza è determinata dal processo.) |
| Tipo di bersaglio | Rotativo |
| Forma | Cilindrica |
| Processo | Deposizione per sputtering con magnetron |
| Incollaggio | Disponibile su richiesta |
| Dimensioni personalizzate | Disponibili |
Elevato sfruttamento del materiale: I bersagli rotanti offrono generalmente un’efficienza di utilizzo superiore rispetto ai bersagli planari, poiché l’erosione avviene in modo continuo lungo la superficie cilindrica. Ciò contribuisce a ridurre la frequenza di sostituzione del bersaglio e migliora l’efficienza produttiva nei processi di sputtering di lunga durata.
Deposizione stabile di film sottili: La geometria cilindrica dei bersagli rotanti consente una distribuzione stabile del plasma e un comportamento di erosione costante, contribuendo a mantenere una qualità uniforme del film sottile durante le operazioni di rivestimento in continuo.
Adatti al rivestimento di grandi superfici: I bersagli rotanti in silicio sono particolarmente adatti ai sistemi di rivestimento di grandi superfici in cui sono richiesti una deposizione uniforme e un funzionamento prolungato.
Deposizione di film sottili su grandi superfici: Adatti ai processi di deposizione di film sottili su substrati di grandi dimensioni, contribuiscono a migliorare l’uniformità del film e la stabilità del processo.
Processi di rivestimento per display e fotovoltaico: Nella produzione di pannelli per display e di celle fotovoltaiche a film sottile, la struttura del bersaglio rotante è in grado di soddisfare i requisiti di produzione continua in termini di uniformità di deposizione.
Preparazione di rivestimenti funzionali: Adatti alla preparazione di rivestimenti elettrici, otticio protettivi, soddisfacendo i requisiti prestazionali di diversi scenari applicativi.
Ricerca e sviluppo e convalida dei processi: Ampiamente utilizzati per ottimizzare i nuovi parametri di processo e studiare il comportamento dei materiali, garantendo test stabili in condizioni di sputtering rotante.
| Caratteristiche | Target rotante in silicio | Target in silicio planare |
| Utilizzo del bersaglio | Superiore | Inferiore |
| Funzionamento continuo | Eccellente | Limitato |
| Rivestimento di grandi superfici | Adatto | Adatto |
| Frequenza di sostituzione del bersaglio | Inferiore | Più elevata |
| Deposizione su scala industriale | Preferibile | Limitata |
ULPMAT fornisce bersagli rotanti in silicio con specifiche personalizzate in base alle esigenze del cliente.
Le opzioni disponibili includono:
È disponibile la documentazione tecnica a supporto della valutazione del materiale e della sua manipolazione in sicurezza.
Documenti disponibili:
✓ Scheda tecnica (TDS) del bersaglio rotante in silicio
✓ Scheda di sicurezza (SDS) del bersaglio rotante in silicio
ULPMAT fornisce bersagli di sputtering ad alta purezza e materiali inorganici avanzati per istituti di ricerca, università e applicazioni industriali.
Per i bersagli rotanti in silicio, ULPMAT offre:
D1: Che cos’è un bersaglio rotante in silicio?
R1: Il bersaglio rotante in silicio è un bersaglio di sputtering cilindrico realizzato in silicio (Si) ad alta purezza e progettato per i sistemi di sputtering a magnetrone rotante. Viene utilizzato come materiale di partenza nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD) per produrre film sottili a base di silicio destinati ad applicazioni nei settori dei semiconduttori, dei rivestimenti ottici, del fotovoltaico e dei rivestimenti funzionali.
D2: A cosa serve un bersaglio rotante in silicio?
R2: I bersagli rotanti in silicio sono utilizzati per applicazioni di deposizione di film sottili in cui sono richiesti film di silicio ad alta purezza e prestazioni di sputtering stabili. Le applicazioni tipiche includono rivestimenti ottici, ricerca sui semiconduttori, tecnologie fotovoltaiche, materiali elettronici e sistemi di rivestimento su grandi superfici. La struttura del bersaglio rotante offre vantaggi per operazioni di sputtering continue con un miglior utilizzo del materiale.
D3: Quali livelli di purezza sono disponibili per i target rotanti in silicio?
R3: I target rotanti in silicio sono comunemente disponibili in gradi di elevata purezza, quali il 99,99% e il 99,999%. Il livello di purezza richiesto dipende dai requisiti dell’applicazione, dagli standard di controllo della contaminazione e dai requisiti prestazionali del film sottile. I bersagli in silicio di maggiore purezza vengono in genere scelti per applicazioni avanzate nel campo dei semiconduttori e dei rivestimenti ottici.
D4: Qual è la differenza tra un bersaglio rotante in silicio e un bersaglio planare in silicio?
R4: La differenza principale tra i bersagli rotanti in silicio e quelli planari in silicio risiede nella loro geometria e nell’efficienza di utilizzo durante la polverizzazione. I target rotanti in silicio garantiscono un’erosione più uniforme, un maggiore utilizzo del materiale e un tempo di funzionamento più lungo rispetto ai target planari convenzionali. Sono particolarmente adatti per sistemi di rivestimento su grandi superfici e processi industriali di sputtering in continuo.
D5: Perché i target rotanti in silicio sono preferiti per i sistemi di sputtering su grandi superfici?
A5: I bersagli in silicio sono preferiti per i sistemi di sputtering su grandi superfici perché il loro design cilindrico consente una rotazione continua durante la deposizione, il che aiuta a mantenere condizioni di plasma stabili e un’erosione uniforme del bersaglio. Questo design può ridurre la frequenza di sostituzione del bersaglio e migliorare l’efficienza di rivestimento per ambienti di produzione ad alto volume.
D6: Quali specifiche possono essere personalizzate per i bersagli rotanti in silicio?
R6: ULPMAT fornisce bersagli in silicio personalizzati in base alle esigenze del cliente, tra cui grado di purezza, dimensioni del bersaglio, diametro del tubo, lunghezza, requisiti di incollaggio e specifiche di imballaggio. Sono disponibili soluzioni personalizzate per diverse apparecchiature di sputtering e applicazioni di deposizione di film sottili.
D7: ULPMAT fornisce i documenti TDS e SDS relativi ai target in silicio?
R7: Sì. ULPMAT fornisce la documentazione tecnica per i target rotanti in silicio, tra cui la Scheda Tecnica (TDS) e la Scheda di Sicurezza (SDS). Questi documenti forniscono informazioni sulle specifiche dei materiali, sui requisiti di manipolazione e sulle considerazioni di sicurezza per la valutazione dei materiali e lo sviluppo delle applicazioni.
D8: Come posso selezionare il bersaglio rotante in silicio più adatto alla mia applicazione?
R8: La scelta di un bersaglio in silicio dipende da diversi fattori, tra cui la purezza richiesta, le dimensioni del bersaglio, la compatibilità con l’apparecchiatura di sputtering, le proprietà del film e i requisiti applicativi. I clienti possono fornire le proprie condizioni di deposizione e i requisiti tecnici per ricevere consigli sui bersagli più adatti.
Formula molecolare: Si
Peso molecolare: 28,09 g/mol
Aspetto: Tubo rotante denso di colore grigio-argento
Densità: 2,33 g/cm³
Punto di fusione: 1414 °C
Punto di ebollizione: 3265 °C
Struttura cristallina: Sistema cubico diamantato
Imballaggio interno: sacchetti sigillati sottovuoto e confezionati in scatole per prevenire la contaminazione e l’umidità.
Imballaggio esterno: cartoni o casse di legno selezionati in base alle dimensioni e al peso.
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