Silicate de magnésium

Cible de pulvérisation en silicate de magnésium Présentation

Les cibles de pulvérisation
en silicate de magnésium
sont des cibles céramiques à haute densité et haute pureté qui présentent une excellente stabilité thermique et une grande inertie chimique. Elles conviennent aux procédés de pulvérisation magnétron ou RF pour les films optiques minces, les films céramiques électroniques et les revêtements fonctionnels.

Nous proposons des cibles en silicate de magnésium de différentes tailles, épaisseurs et densités, et pouvons personnaliser les solutions de liaison des fonds de panier en cuivre ou en aluminium en fonction des exigences des équipements de nos clients. Veuillez nous contacter
pour obtenir les paramètres et les devis.

Points forts du produit

Haute densité, excellente stabilité de pulvérisation
Excellente stabilité thermique, aucune déformation après un dépôt à long terme
Surface lisse, grande uniformité du film
Forte inertie chimique, adaptable à divers procédés
Peut être lié à des fonds en cuivre/aluminium pour améliorer l’efficacité de la dissipation thermique
Disponible en différentes tailles, épaisseurs et spécifications personnalisées

Applications des cibles de pulvérisation en silicate de magnésium

Préparation de films
optiques
minces : les cibles en silicate de magnésium peuvent déposer des films denses et transparents par pulvérisation RF ou magnétron, garantissant l’uniformité et la répétabilité du film.
Films céramiques électroniques : utilisés pour le revêtement de dispositifs électroniques haute performance, améliorant les propriétés diélectriques et la stabilité des films minces.
Dépôt de revêtements fonctionnels : convient aux revêtements résistants à l’usure, à la chaleur ou à haute stabilité, répondant à des exigences de processus spécifiques.
Recherche et validation des processus : convient à la validation des processus de pulvérisation dans les laboratoires et les opérations à l’échelle pilote, facilitant l’optimisation des paramètres et l’évaluation des matériaux.

FAQ

Q1 : À quel équipement la cible de pulvérisation MgSiO₃ convient-elle ?
A1 : Elle peut être utilisée dans les équipements de recherche et de dépôt de films minces industriels tels que la pulvérisation radiofréquence (RF) et la pulvérisation magnétron.

Q2 : La densité de la cible a-t-elle une incidence sur l’uniformité du film ?
A2 : Les cibles à haute densité réduisent le risque de détachement des particules, améliorant ainsi l’uniformité et la répétabilité du film.

Q3 : La taille de la cible et le collage de la plaque arrière peuvent-ils être personnalisés ?
A3 : Oui, nous pouvons fournir des cibles rondes, carrées et de taille spéciale, et proposer des solutions de collage de plaques arrière en cuivre ou en aluminium afin d’améliorer l’efficacité de la dissipation thermique et la durée de vie.

Q4 : Quelles sont les précautions à prendre pour le collage de la plaque arrière ?
A4 : La surface de contact entre la cible et la plaque arrière doit être plane. Après le collage, évitez l’humidité ou la contamination afin de garantir une bonne conduction thermique et la stabilité de la cible pendant la pulvérisation.

Rapport

Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)

Fiche technique (TDS)

Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir ?

Nous sommes spécialisés dans la préparation de cibles de pulvérisation MgSiO₃ de haute pureté et dans la technologie de collage de plaques arrière, fournissant des produits à haute densité, à contrôle dimensionnel et à haute uniformité de film. Nous offrons également une assistance technique adaptée aux équipements et aux exigences de processus de nos clients, les aidant à réaliser efficacement le dépôt de films minces et la validation des processus.