| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 4908500800ST001 | In2O3-SnO2 (90/10 wt%) | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4908500800ST002 | In2O3-SnO2 (95/5 wt%) | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908500800ST003 | In2O3-SnO2 (90/10 wt%) | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908500800ST004 | In2O3-SnO2 (95/5 wt%) | 99.99% | Ø 101.6 mm x 4 mm | Inquire |
| 4908500800ST005 | In2O3-SnO2 (90/10 wt%) | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908500800ST006 | In2O3-SnO2 (90/10 wt%) | 99.99% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4908500800ST007 | In2O3-SnO2 (90/10 wt%) | 99.99% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908500800ST008 | In2O3-SnO2 (90/10 wt%) | 99.99% | Ø 203.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
La cible de pulvérisation d’oxyde d’indium et d’étain (In2O3-SnO2) est un oxyde conducteur transparent (TCO) de haute pureté largement utilisé dans les applications électroniques à couches minces, les dispositifs optoélectroniques et les semi-conducteurs. Avec une excellente conductivité électrique, une transparence optique et une formation de film uniforme, les cibles de pulvérisation ITO sont essentielles pour la fabrication d’écrans avancés, de panneaux tactiles, de cellules solaires et d’autres dispositifs à couches minces. Nos cibles garantissent une pureté de 99,99 % (4N), une structure dense et des performances stables pour les applications industrielles et de recherche.
Nous fournissons des cibles de pulvérisation ITO de haute qualité aux fabricants et aux instituts de recherche. Contactez-nous pour obtenir le meilleur prix et le meilleur prix et le meilleur support technique.
Pureté supérieure : la pureté de 99,99 % (4N) répond aux exigences strictes des applications de couches minces et de TCO.
Haute performance : Excellente conductivité électrique et transparence optique pour les dispositifs optoélectroniques.
Matériau stable : La structure dense, la faible teneur en impuretés et la composition uniforme garantissent des résultats reproductibles pour les films minces.
Dimensions flexibles : Disponible en plusieurs dimensions pour s’adapter aux différents systèmes de dépôt.
Électronique en couches minces : Appliquée dans les électrodes transparentes, les transistors à couche mince (TFT) et les écrans OLED.
Appareils optoélectroniques Dispositifs optoélectroniques : Utilisés dans les panneaux tactiles, les photodétecteurs, les capteurs infrarouges et l’électronique flexible.
Cellules solaires : Convient aux couches d’électrodes transparentes dans les cellules solaires CIGS et pérovskites avancées.
Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires pour la science des matériaux et la recherche de dispositifs.
Dispositifs énergétiques : Utilisé dans les films conducteurs transparents pour les applications de conversion et de stockage de l’énergie.
Expertise industrielle : Spécialisés dans les cibles de pulvérisation de haute pureté pour les technologies de TCO et de couches minces.
Solutions personnalisées : Souplesse dans la composition des cibles, les dimensions et le choix de la plaque de support.
Qualité fiable : Un contrôle strict des impuretés, une structure dense et une composition uniforme garantissent des performances stables.
Livraison mondiale : Expédition rapide et sûre dans le monde entier, avec emballage protecteur.
Assistance technique : Une équipe professionnelle fournit une documentation technique complète et des conseils.
F1. Quelle est la pureté de vos cibles de pulvérisation In2O3-SnO2 ?
A1. Nos cibles ITO ont une pureté standard de 99,99 % (4N), ce qui garantit des résultats fiables pour les films minces avancés et les applications optoélectroniques.
F2. Le rapport In:Sn ou la taille de la cible peuvent-ils être personnalisés ?
A2. Oui, nous fournissons des rapports In:Sn et des dimensions de cible personnalisables en fonction des exigences de votre système de dépôt.
F3. Comment les cibles In2O3-SnO2 doivent-elles être stockées et manipulées ?
A3. Les cibles doivent être stockées dans un environnement frais et sec, dans des conteneurs scellés. Éviter l’humidité, la poussière et la contamination pendant la manipulation.
F4. Quelles sont les industries qui utilisent couramment des cibles In2O3-SnO2 ?
A4. Largement utilisées dans l’électronique à couche mince, les écrans OLED, les panneaux tactiles, les cellules solaires, l’optoélectronique et les laboratoires de recherche.
F5. Des rapports techniques sont-ils disponibles à des fins industrielles ou de recherche ?
A5. Oui, chaque lot est accompagné d’un COA, d’un TDS, d’une MSDS et de rapports d’impuretés ICP-MS. Des rapports d’essais par des tiers sont disponibles sur demande.
Chaque lot de produits est fourni avec :
Un certificat d’analyse (COA)
Fiche technique (TDS)
Fiche de données de sécurité (FDS)
Des rapports de tests effectués par des tiers sont disponibles sur demande pour répondre aux normes industrielles et de recherche.
Formule moléculaire : In₂O₃-SnO₂
Aspect : Cible dense blanc cassé ou gris argenté
Point de fusion : ~1900°C
Point d’ébullition : ~2000°C
Structure cristalline : Cubique (In₂O₃ comme phase primaire)
Emballage intérieur : Sacs scellés sous vide et emballage pour éviter la contamination et l’humidité.
Emballage extérieur : Cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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