Les cibles de pulvérisation
en oxyde de lithium et de niobium
sont des cibles en matériau fonctionnel à haute densité et haute uniformité utilisées dans la préparation de films minces et les expériences de recherche scientifique. Elles sont largement utilisées dans les films cathodiques des batteries lithium-ion, les dispositifs optoélectroniques et le dépôt de revêtements fonctionnels.
Nous pouvons fournir des cibles de pulvérisation LNO à haute densité et haute uniformité ; les tailles, les épaisseurs et les formes peuvent toutes être personnalisées selon les besoins des clients. Contactez-nous
pour obtenir des échantillons et des solutions personnalisées !
La haute densité garantit un dépôt uniforme du film.
La structure cristalline stable garantit des résultats de dépôt fiables.
Taille, épaisseur et forme personnalisables.
Prise en charge de la recherche et de la préparation industrielle de films minces.
Le traitement fin de la surface réduit les défauts.
Réponse rapide de notre équipe technique
Préparation de matériaux cathodiques en film mince :
utilisées pour le dépôt de films cathodiques de batteries lithium-ion haute performance, améliorant la stabilité du cycle et les performances électrochimiques.
Dispositifs optoélectroniques :
convient aux dispositifs optiques et au dépôt de films minces fonctionnels microélectroniques, garantissant l’intégrité des cristaux.
Revêtements fonctionnels :
utilisé pour la préparation de capteurs, de structures microélectroniques et de revêtements de haute précision, garantissant des films denses et uniformes.
Q1 : Quels sont les procédés de dépôt adaptés aux cibles de pulvérisation LNO ?
R1 : Convient au pulvérisation magnétron, à l’évaporation par faisceau d’électrons et à d’autres procédés PVD conventionnels.
Q2 : La taille et l’épaisseur de la cible peuvent-elles être personnalisées ?
R2 : Oui, différentes spécifications sont disponibles en fonction des exigences de l’équipement du client.
Q3 : Quelle est l’uniformité du film déposé ?
R3 : La densité de la cible et la structure cristalline optimisée garantissent une grande uniformité du film et une qualité cristalline élevée.
Q4 : Y a-t-il des défauts sur la surface de la cible de pulvérisation ?
A4 : La surface de la cible est soumise à un polissage et à un traitement de précision, ce qui se traduit par un faible taux de défauts, adapté à la préparation de films minces de haute précision.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapport d’inspection des dimensions
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Forts de nombreuses années d’expérience dans la production de cibles de pulvérisation pour matériaux fonctionnels, nous sommes en mesure de fournir des cibles de pulvérisation LNO personnalisées et de haute qualité afin de garantir la stabilité et l’efficacité du dépôt de films minces dans la recherche scientifique et les applications industrielles. Notre équipe technique offre une réponse rapide et un soutien professionnel pour aider nos clients à réaliser des préparations de films minces de haute précision.
Formule moléculaire : LiNbO₃
Poids moléculaire : 147,85 g/mol
Aspect : Matériau cible solide dense de couleur claire
Densité : 4,64 g/cm³ : 4,64 g/cm³
Point de fusion : 1253 °C
Structure cristalline : Trigonal
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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