ULPMAT

酸化ニオブリチウム

Chemical Name:
酸化ニオブリチウム
Formula:
LiNbO3
Product No.:
03410800
CAS No.:
12031-63-9
EINECS No.:
234-755-4
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
03410800ST001 LiNbO3 99.99% Ø 50.8mm x 3.175mm Inquire
03410800ST002 LiNbO3 99.99% Ø 76.2mm x 3.175mm Inquire
Product ID
03410800ST001
Formula
LiNbO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8mm x 3.175mm
Product ID
03410800ST002
Formula
LiNbO3
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2mm x 3.175mm

酸化ニオブ酸リチウムスパッタリングターゲット概要酸化ニオブ酸リ

ウムスパ

ッタ

リングターゲットは

、高密度・高均一性を特徴とする機能性材料ターゲットであり、薄膜作製や科学研究実験に用いられます。リチウムイオン電池の正極膜、光電子デバイス、機能性コーティングの成膜に広く活用されています。

高密度・高均一性のLNOスパッタリングターゲットを提供可能です。サイズ、厚さ、形状はすべてお客様のご要望に応じてカスタマイズできます。サンプルやカスタマイズソリューションについてはお問い合わせください

製品特長

高密度設計による均一な成膜性
安定した結晶構造による信頼性の高い成膜結果
サイズ・厚さ・形状のカスタマイズ対応
研究開発から産業用薄膜形成まで幅広く対応
精密表面加工による欠陥低減
技術チームの迅速な

対応酸化ニオブ化リチウムスパッタリングターゲットの応用例薄膜

カソード

材料形成


高性能リチウムイオン電池用カソード膜の成膜に用いられ、サイクル安定性と電気化学特性を向上。
光電子デバイス:
光学デバイスやマイクロエレクトロニクス機能薄膜の成膜に適し、結晶の完全性を確保。
機能性コーティング:
センサー、マイクロエレクトロニクス構造、高精度コーティングの作製に使用され、緻密で均一な薄膜を保証。

よくあるご質問

Q1: LNOスパッタリングターゲットに適した成膜プロセスは?
A1: マグネトロンスパッタリング、電子線蒸着、その他の従来型PVDプロセスに適しています。

Q2: ターゲットのサイズと厚さはカスタマイズ可能ですか?
A2: はい、お客様の装置要件に応じて様々な仕様をご用意できます。

Q3: 堆積膜の均一性はどの程度ですか?
A3: ターゲットの高密度と最適化された結晶構造により、高い膜均一性と結晶品質が保証されます。

Q4: ターゲット表面に欠陥はありますか?
A4: 精密研磨・加工を施しているため欠陥率が低く、高精度薄膜作製に適しています。

報告書

各ロットに付属:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
寸法検査報告書
第三者機関による試験報告書はご要望に応じて提供可能です

当社を選ぶ理由

機能性材料スパッタリングターゲット製造における豊富な経験に基づき、カスタマイズされた高品質LNOスパッタリングターゲットを提供し、科学研究および産業応用における薄膜成膜の安定性と効率性を保証します。技術チームは迅速な対応と専門的なサポートを提供し、お客様の高精度薄膜作製を実現します。

分子式:LiNbO₃
分子量:147.85 g/mol
外観淡色、緻密な固体ターゲット
密度4.64 g/cm³
融点: 1253 °C
結晶構造:三方晶

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。

資料

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