Les cibles de pulvérisation
en fluorure de zinc
possèdent une grande pureté et d’excellentes performances de pulvérisation. Elles sont largement utilisées dans le dépôt de couches minces, les revêtements optiques et la production de composants électroniques afin de garantir un fonctionnement efficace et stable.
Nos cibles de pulvérisation ZnF2 sont fabriquées à l’aide de processus de précision, garantissant une grande pureté et une bonne stabilité, adaptées à diverses exigences technologiques en matière de couches minces. Veuillez nous contacter
pour obtenir plus d’informations sur les produits et une assistance technique.
Grande pureté, améliorant la qualité du film
Grande stabilité, prolongeant la durée de vie
Excellentes performances de pulvérisation, améliorant l’efficacité
Conforme aux normes industrielles, largement applicable
Particules uniformes, excellent effet de pulvérisation
Services personnalisés pour répondre à des besoins spécifiques
Contrôle qualité strict garantissant un approvisionnement stable
Haute performance, adaptable à des environnements de travail complexes
Revêtement
optique
: utilisé dans le domaine de l’optique pour revêtir le verre optique et les lentilles, améliorant la transmission de la lumière et les propriétés antireflets.
Composants électroniques : utilisé dans l’industrie électronique pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, optimisant les performances des couches minces.
Dépôt de couches minces : utilisées dans diverses technologies de couches minces, les cibles ZnF2 jouent un rôle stabilisateur dans les processus de dépôt de couches minces à haut rendement.
Dispositifs laser : adaptées à la fabrication de dispositifs laser, elles améliorent les performances et la stabilité des équipements.
Q1 : Quelle est la pureté de nos cibles de pulvérisation ZnF2 ?
A1 : Nos cibles ont une pureté de 99,99 %, répondant aux exigences des applications de dépôt de couches minces les plus exigeantes.
Q2 : À quelles techniques de dépôt de couches minces nos cibles de pulvérisation ZnF2 peuvent-elles être utilisées ?
R2 : Elles conviennent à diverses techniques de dépôt de couches minces telles que la pulvérisation magnétron et la pulvérisation réactive, largement utilisées en optique, en électronique et en science des matériaux.
Q3 : Quelle est l’efficacité de pulvérisation de nos cibles de pulvérisation ZnF2 ?
A3 : Excellente efficacité de pulvérisation, offrant un dépôt de couche mince uniforme et de haute qualité et garantissant la stabilité du processus.
Q4 : Quelle est la durée de vie de nos cibles de pulvérisation ZnF2 ?
A4 : Dans des conditions de fonctionnement normales, elles ont une longue durée de vie. Un contrôle qualité strict garantit des performances stables.
Chaque lot est fourni avec :
Certificat d’analyse (COA)
Fiche de données de sécurité (MSDS)
Rapports d’essais effectués par des tiers disponibles sur demande
Nous nous concentrons sur la R&D et la production de cibles de pulvérisation haute performance, fournissant des cibles de pulvérisation ZnF2 de haute qualité pour répondre aux divers besoins des clients dans les processus de dépôt de couches minces. Nous offrons un soutien technique professionnel pour garantir la stabilité de la qualité et des performances des produits.
Formule moléculaire : ZnF₂
Poids moléculaire : 81,38 g/mol
Aspect : Cible céramique blanche et dense avec une surface lisse et uniforme.
Densité : 4,82 g/cm³ : 4,82 g/cm³
Point de fusion : 872 °C
Point d’ébullition : 1 500 °C (se décompose)
Structure cristalline : Tétragonale (structure de type Rutile)
Emballage intérieur : sacs sous vide et boîtes afin d’éviter toute contamination et humidité.
Emballage extérieur : cartons ou caisses en bois sélectionnés en fonction de la taille et du poids.
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