ULPMAT

フッ化亜鉛

Chemical Name:
フッ化亜鉛
Formula:
ZnF2
Product No.:
300900
CAS No.:
7783-49-5
EINECS No.:
232-001-9
Form:
スパッタリングターゲット
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
300900ST001 ZnF2 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
300900ST001
Formula
ZnF2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 101.6 mm x 3.175 mm

フッ化亜鉛スパッタリングターゲット概要

フッ化亜鉛
スパッタリングターゲットは高純度と優れたスパッタリング性能を有し、薄膜堆積、光学コーティング、電子部品製造に広く使用され、効率的かつ安定した動作を保証します。

当社のZnF2スパッタリングターゲットは精密プロセスで製造され、高純度と優れた安定性を保証し、様々な薄膜技術要件に適しています。製品情報および技術サポート
についてはお問い合わせ
ください

製品の特徴

高純度で膜品質を向上
高い安定性で寿命を延長
優れたスパッタリング性能で効率を向上
業界標準に準拠し、幅広い適用性
均一な粒子で優れたスパッタリング効果
特定のニーズに対応するカスタマイズサービス
厳格な品質管理による安定供給
高性能で複雑な作業環境にも適応

フッ化亜鉛スパッタリングターゲットの応用分野

光学
コーティング:光学分野で光学ガラスやレンズのコーティングに使用され、光透過率と反射防止特性を向上。
電子部品:半導体デバイス製造における薄膜性能の最適化に活用。
薄膜成膜:各種薄膜技術で使用され、高効率薄膜成膜プロセスにおいて安定化作用を発揮
レーザーデバイス:レーザー装置製造に適し、装置性能と安定性を

向上FA

QQ1: 当社のZnF2スパッタリングターゲットの純度は?
A1: 純度99.99%で、最も要求の厳しい薄膜成膜用途の要件を満たします

Q2: 当社のZnF2スパッタリングターゲットはどの薄膜成膜技術に使用できますか?
A2: マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリングなど様々な薄膜成膜技術に適しており、光学、電子工学、材料科学分野で広く使用されています。

Q3: 当社のZnF2スパッタリングターゲットのスパッタ効率はどの程度ですか?
A3: 優れたスパッタ効率を発揮し、高品質で均一な薄膜成膜を実現するとともに、プロセス安定性を確保します。

Q4: 当社のZnF2スパッタリングターゲットの寿命はどの程度ですか?
A4: 通常の使用条件下では長寿命です。厳格な品質管理により安定した性能を保証します。

報告書

各ロットに付属:
分析証明書(COA)
技術データシート(TDS)
安全データシート(MSDS)
第三者試験報告書

ご要望に応じて提供

)当社を選ぶ理由

高性能スパッタリングターゲットの研究開発・製造に特化し、多様な薄膜成膜プロセスニーズに対応する高品質ZnF2スパッタリングターゲットを提供。安定した製品品質と性能を保証する専門的な技術サポートを提供します。

分子式ZnF₂
分子量:81.38 g/mol
外観表面が滑らかで均一な、白色で緻密なセラミックターゲット
密度4.82 g/cm³
融点:872 °C
沸点:1,500 °C(分解する)
結晶構造正方晶(ルチル型構造)

内包装:汚染や湿気を防ぐため、真空パック袋に入れ、箱詰めします。

外包装:サイズと重量に基づき、カートンまたは木箱を選択します。

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