El objetivo giratorio
de aleación de zinc y aluminio
es un objetivo metálico de alto rendimiento ampliamente utilizado en la deposición de películas delgadas, el tratamiento de superficies y la fabricación de aleaciones de alto rendimiento.
Ofrecemos objetivos de pulverización ZnAl de alta calidad adecuados para diversos procesos de pulverización, que satisfacen las necesidades de los clientes en la producción de películas delgadas de alta precisión. Póngase en contacto con nosotros
para obtener más información y opciones de personalización
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Garantía de alta pureza
Rendimiento de pulverización estable
Deposición de película fina de alta eficiencia
Excelente resistencia a la corrosión
Larga vida útil
Resistencia a altas temperaturas
Formas y especificaciones personalizables
Control de calidad de precisión
Deposición de película fina: gracias a su excelente estabilidad y precisión en la deposición de película fina, se utiliza ampliamente en la producción de dispositivos electrónicos y optoelectrónicos.
Recubrimiento de superficies: en los procesos de recubrimiento de superficies metálicas, puede mejorar eficazmente la resistencia al desgaste y a la corrosión de los materiales. Fabricación
de semiconductores
: como objetivo metálico de alta pureza, se utiliza comúnmente en los procesos de deposición de películas delgadas en la fabricación de semiconductores para garantizar una excelente calidad de la película.
Aleaciones de alto rendimiento: ampliamente utilizado en la producción de aleaciones de alto rendimiento, puede mejorar significativamente la resistencia y la resistencia a altas temperaturas de las aleaciones.
P1: ¿Cuál es la pureza de nuestro objetivo rotatorio de ZnAl?
R1: Nuestra pureza es del 99,99 %. También podemos proporcionar productos con diferentes purezas según los requisitos del cliente.
P2: ¿Para qué procesos de pulverización catódica es adecuado el objetivo rotatorio de ZnAl?
R2: Adecuado para procesos de pulverización catódica de CC y RF, ideal para aplicaciones de deposición de películas delgadas de alta precisión.
P3: ¿Cómo se debe almacenar el objetivo rotativo de ZnAl?
R3: Se debe almacenar en un entorno seco con una temperatura adecuada, evitando la humedad y la oxidación para mantener su buen rendimiento.
P4: ¿Cuál es el rango de temperatura de funcionamiento del objetivo rotativo de ZnAl?
R4: Tiene una buena resistencia a altas temperaturas y puede funcionar de forma estable en entornos de alta temperatura, por lo que es adecuado para la mayoría de los procesos de pulverización a alta temperatura.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Con nuestra tecnología avanzada y nuestro riguroso control de calidad, proporcionamos blancos de pulverización ZnAl de alta pureza, lo que ayuda a los clientes a alcanzar un rendimiento óptimo en diversas aplicaciones de alta precisión y ofrece soluciones personalizadas.
Fórmula molecular: ZnAl
Aspecto: Blanco plateado metálico, denso y uniforme, con superficie brillante
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
