Titanio Carburo de silicio

 Objetivos de pulverización de carburo de titanio y silicio Descripción general

Los objetivos de pulverización
de carburo de titanio y silicio
son objetivos cerámicos funcionales basados en una estructura de fase MAX, que combinan la conductividad de los metales con la resistencia a altas temperaturas de la cerámica. Estos objetivos se utilizan principalmente para preparar películas delgadas funcionales que requieren resistencia a altas temperaturas, conductividad y estabilidad estructural.

Ofrecemos blancos de pulverización Ti3SiC2 con una composición uniforme y una estructura estable, adecuados para procesos de pulverización catódica con magnetrón de CC o RF. Se pueden proporcionar diferentes tamaños y formas estructurales para satisfacer los requisitos del equipo. Póngase en contacto con nosotros
para obtener parámetros técnicos y sugerencias de aplicación.

Características destacadas del producto

Estructura cristalina en capas
de fase MAX

Buena conductividad eléctrica, adecuada para la pulverización catódica con magnetrón
Excelente estabilidad térmica y resistencia al choque térmico
Composición estable y buena repetibilidad durante la pulverización
Adecuado para entornos de deposición al vacío y a alta temperatura
Se puede utilizar para preparar películas delgadas funcionales y estructurales

Aplicaciones de los blancos de pulverización de carburo de titanio y silicio

Deposición de películas delgadas funcionales:
se utiliza para preparar películas delgadas funcionales con conductividad y resistencia a altas temperaturas, adecuadas para aplicaciones de dispositivos funcionales de alta gama.
Resistencia a altas temperaturas y recubrimientos protectores:
las películas delgadas de Ti₃SiC₂ presentan una buena estabilidad estructural en condiciones de alta temperatura y pueden utilizarse para la protección contra altas temperaturas y recubrimientos estructurales.
Investigación en semiconductores y microelectrónica:
adecuado para la deposición de capas funcionales en dispositivos semiconductores, MEMS e investigación de materiales relacionados.
Investigación científica y desarrollo de materiales:
ampliamente utilizado en la investigación de películas delgadas de fase MAX, mecanismos de crecimiento y nuevos materiales en capas.

Preguntas frecuentes

P1: ¿Para qué método de pulverización es adecuado el blanco de pulverización Ti3SiC2?
R1: Este blanco tiene buena conductividad y se puede utilizar para la pulverización por magnetrón de CC, así como para sistemas de pulverización por magnetrón de RF.

P2: ¿Es estable la composición del blanco Ti3SiC2 durante la pulverización?
R2: Con parámetros de proceso razonables, este objetivo de pulverización puede mantener una buena consistencia composicional, lo que lo hace adecuado para la deposición de películas delgadas con altos requisitos de repetibilidad.

P3: ¿El objetivo de pulverización Ti3SiC2 es adecuado para procesos de deposición a alta temperatura?
R3: Sí, este material objetivo posee una excelente estabilidad térmica y resistencia al choque térmico, lo que lo hace adecuado para condiciones de pulverización a alta temperatura o a largo plazo.

P4: ¿En qué áreas de investigación se utiliza normalmente la película delgada de Ti3SiC2?
R4: Se utiliza principalmente en películas delgadas de fase MAX, investigación de materiales biocompatibles, recubrimientos resistentes al desgaste y a altas temperaturas, y películas delgadas de cerámica conductora.

Informe

Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)

Ficha técnica (TDS)

Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición

. ¿Por qué elegirnos?

Nos especializamos en la investigación y el suministro de cerámicas funcionales y materiales avanzados para blancos, proporcionando soluciones estables y fiables para el control de la estructura de los materiales, la densificación de los blancos y la adaptación de las aplicaciones, y dando soporte a las necesidades de investigación y deposición de películas finas de grado industrial.