| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 491600ST001 | In2S3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 491600ST002 | In2S3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST003 | In2S3 | 99.999% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST004 | In2S3 | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST005 | In2S3 | 99.999% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 491600ST006 | In2S3 | 99.999% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
El sulfuro de indio (In2S3) es un compuesto de alta pureza ampliamente utilizado en células solares de película fina, optoelectrónica y dispositivos semiconductores. Con excelentes propiedades ópticas y eléctricas, los cátodos para sputtering de In2S3 son ideales para producir películas finas uniformes y de alto rendimiento. Nuestros cátodos garantizan una pureza del 99,999%, alta densidad y velocidades de sputtering estables, tanto para aplicaciones de investigación como industriales.
Proporcionamos cátodos para sputtering de sulfuro de indio (In₂S₃) de alta calidad con tamaños y opciones de unión personalizables. Póngase en contacto con nosotros para precios y precios y asistencia técnica.
Pureza superior: La pureza del 99,999% (5N) garantiza una contaminación mínima y una calidad estable de la película fina.
Alta densidad: Optimizado para un sputtering uniforme y una deposición reproducible.
A medida Personalizadas: Disponibles en formas circulares, planas o rectangulares, con dimensiones adaptadas a su sistema.
Opciones de placa de soporte: Adhesión opcional para mejorar la conductividad térmica y la durabilidad del objetivo.
Rendimiento estable: Proporciona velocidades de deposición constantes, una adhesión excelente y películas finas de alta calidad.
Células solares de película fina: Se utilizan como capa amortiguadora o absorbente en CIGS y otras células solares de película fina.
Dispositivos optoelectrónicos Optoelectrónicos: Adecuado para fotodetectores, capas conductoras transparentes y dispositivos infrarrojos.
Semiconductores: Utilizados para transistores de película fina de alto rendimiento, sensores y componentes electrónicos.
Investigación y desarrollo: Apoya estudios de ciencia de materiales e I+D de electrónica avanzada.
Materiales energéticos: Aplicados en almacenamiento de energía y dispositivos fotocatalíticos de película fina.
Experiencia en el sector: Especializados en cátodos para sputtering avanzados para semiconductores, optoelectrónica y aplicaciones de película fina.
Soluciones personalizadas: Composición flexible, dimensiones y unión para satisfacer las necesidades del cliente.
Calidad fiable: Estricto control de pureza, densidad y microestructura para obtener resultados reproducibles.
Entrega mundial: Envío rápido y seguro a todo el mundo con embalaje protector.
Asistencia técnica: Un equipo profesional proporciona documentación completa y asesoramiento técnico.
F1. ¿Cuál es la pureza de sus cátodos para sputtering de sulfuro de indio?
A1. Nuestros cátodos para sputtering tienen una pureza del 99,99% (4N), adecuada para la deposición de películas finas de alta precisión.
F2. ¿Qué formas y tamaños hay disponibles para los cátodos de In2S3?
A2. Disponemos de cátodos circulares, planos y rectangulares, con dimensiones personalizadas para adaptarse a diversos sistemas de sputtering.
F3. ¿Proporcionan la unión de la placa de soporte para los cátodos de In2S3?
A3. Sí, podemos unir cátodos a placas de soporte adecuadas para mejorar la gestión térmica y prolongar la vida útil de los cátodos.
F4. ¿Qué industrias utilizan cátodos para sputtering de sulfuro de indio?
A4. Se utilizan ampliamente en células solares de película fina, optoelectrónica, dispositivos semiconductores e I+D avanzada.
Cada lote de cátodos para sputtering In2S3 se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos técnicos (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Los informes de pruebas de terceros están disponibles bajo petición para cumplir con las normas de investigación e industriales.
Fórmula química: In2S3
Peso molecular: 325,82 g/mol
Densidad: 4,85 g/cm³
Punto de fusión: > 1050°C
Pureza objetivo: 99,99%-99,9995% (personalizable)
Aspecto: Sólido negro o gris oscuro
Forma: Redonda, rectangular o tamaños personalizados
Estructura cristalina: Cúbica
Método de pulverización catódica: Pulverización catódica por magnetrón CC (DC)/ pulverización catódica RF (RF)
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
