Los objetivos de pulverización
de siliciuro de vanadio
son objetivos funcionales que combinan una excelente conductividad con estabilidad a altas temperaturas, adecuados para diversos procesos de deposición física en fase vapor. Estos objetivos se pueden utilizar para preparar películas delgadas de siliciuro con una estructura uniforme y un rendimiento estable.
Ofrecemos objetivos de pulverización de siliciuro de vanadio en varios tamaños, formas y con densidad controlada. Póngase en contacto con nosotros
para obtener soluciones personalizadas y asistencia técnica.
Alta estabilidad de pulverización
Blante denso y uniforme
Buena conductividad de la película
Fiable para aplicaciones a alta temperatura
Estructura y tamaño personalizables
Consistencia estable entre lotes
Preparación de películas delgadas funcionales conductoras:
Adecuados para preparar películas delgadas funcionales conductoras, que pueden utilizarse para la deposición de dispositivos electrónicos y capas funcionales relacionadas.
Recubrimientos de materiales electrónicos de alta temperatura:
gracias a su excelente estabilidad térmica, se pueden preparar recubrimientos funcionales estables a altas temperaturas para satisfacer los requisitos de las aplicaciones electrónicas de alta temperatura.
Modificación de la superficie de los dispositivos:
las películas delgadas de siliciuro de vanadio formadas por pulverización pueden mejorar las propiedades eléctricas y la estabilidad operativa de las superficies de los dispositivos.
Investigación científica e investigación de procesos de películas delgadas:
este objetivo se utiliza comúnmente en la investigación de procesos de deposición y películas delgadas de siliciuro, y es adecuado para aplicaciones a escala de laboratorio y piloto.
P1: ¿Qué métodos de pulverización son adecuados para los objetivos de pulverización de siliciuro de vanadio?
R1: Adecuado para procesos de pulverización de CC o RF, proporciona una buena uniformidad y estabilidad de la película.
P2: ¿Cómo afecta la densidad del objetivo al rendimiento de la película?
R2: Una mayor densidad ayuda a mejorar la adhesión de la película y la consistencia eléctrica.
P3: ¿Es este objetivo adecuado para la pulverización continua?
R3: En condiciones adecuadas de refrigeración y proceso, puede cumplir los requisitos para la pulverización continua a largo plazo.
P4: ¿Qué precauciones se deben tomar durante su uso?
R4: Se recomienda mantener la superficie del blanco limpia y seca, y controlar los parámetros de pulverización de forma adecuada según las condiciones del equipo.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Contamos con una amplia experiencia en la preparación de blancos de pulverización de siliciuro y podemos proporcionar de forma fiable blancos de pulverización de siliciuro de vanadio con un rendimiento constante. También ofrecemos asistencia específica basada en los requisitos de proceso de nuestros clientes para ayudarles a conseguir una deposición de película fina de alta calidad.
Fórmula molecular: VSi₂
Peso molecular: 86,95 g/mol
Aspecto: Brillo metálico gris plateado, textura metálica.
Densidad: 4,76 g/cm³
Punto de fusión: 1890°C
Estructura cristalina: Hexagonal
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
