ULPMAT

Siliciuro de tántalo

Chemical Name:
Siliciuro de tántalo
Formula:
TaSi2
Product No.:
731400
CAS No.:
12039-79-1
EINECS No.:
234-902-2
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
731400ST001 TaSi2 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST002 TaSi2 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST003 TaSi2 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST004 TaSi2 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST005 TaSi2 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST006 TaSi2 99.9% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST007 TaSi2 99.9% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
731400ST008 TaSi2 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
731400ST009 TaSi2 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
Product ID
731400ST001
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST002
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST003
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST004
Formula
TaSi2
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST005
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST006
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST007
Formula
TaSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
731400ST008
Formula
TaSi2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
731400ST009
Formula
TaSi2
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm

Cátodos para sputtering de siliciuro de tántalo Descripción general

Los cátodos para sputtering son materiales de alto rendimiento diseñados para procesos de deposición de películas finas. Con una pureza de hasta el 99,99%, presentan una excelente estabilidad térmica y química, garantizando una formación uniforme de la película, una buena adherencia y un bajo contenido en impurezas.

Ofrecemos cátodos para sputtering de siliciuro de tántalo en una variedad de especificaciones y tamaños, incluidos redondos y rectangulares, y pueden personalizarse según sus necesidades específicas. Si tiene alguna pregunta durante el uso, no dude en ponerse en contacto con nosotros ponerse en contacto con nosotros.

Productos destacados

Pureza: 99,99
Excelente estabilidad térmica y química
Alta densidad para garantizar una deposición uniforme de la película
Tamaño y forma personalizables
Adhesión al objetivo disponible
Aplicable a semiconductores, optoelectrónica y revestimientos de alta temperatura

Aplicaciones del cátodo para sputtering de siliciuro de tántalo

Semiconductores: Utilizado para fabricar capas de película fina de dispositivos electrónicos de alto rendimiento para mejorar la estabilidad y el rendimiento del dispositivo.
Dispositivos optoelectrónicos: Adecuado para la fabricación de capas de película óptica y elementos sensores.
Recubrimientos de alta temperatura: Proporcionan un excelente rendimiento en revestimientos resistentes al desgaste y a altas temperaturas.
Películas finas funcionales: Aplicadas a capas de películas protectoras resistentes a la corrosión y al desgaste.

Informes

Cada lote de productos se suministra con un Certificado de análisis (COA), Hoja de datos de seguridad del material (MSDS) e informes de calidad relacionados. También realizamos pruebas con terceros para garantizar que la calidad del producto cumple las normas del cliente.

Fórmula molecular: TaSi₂
Peso molecular: alrededor de 182,84 g/mol
Aspecto: blanco denso de color gris oscuro con superficie lisa
Densidad: alrededor de 9,4 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: alrededor de 2.850 °C
Estructura cristalina: sistema hexagonal

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 731400ST Categoría Marca:

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