Los objetivos de pulverización
de siliciuro de cobalto
son objetivos de siliciuro de cobalto de alta pureza con una excelente conductividad y estabilidad térmica, ampliamente utilizados en películas delgadas de semiconductores, dispositivos microelectrónicos y deposición de capas conductoras a alta temperatura.
Ofrecemos objetivos de pulverización de CoSi2 en varios tamaños, formas cristalinas y grados de pureza, y ofrecemos pruebas de muestras y asesoramiento técnico. Póngase en contacto con nosotros
para obtener información detallada y soluciones de proceso.
Estructura cristalina densa y uniforme.
Conductividad estable.
Excelente estabilidad térmica.
Resistencia a la corrosión y al desgaste.
Adecuado para diversos procesos de pulverización.
Tamaño y forma cristalina personalizables.
Placa base y unión personalizables.
Compatible con experimentos de investigación científica y verificación de procesos
Preparación de películas finas semiconductoras:
los blancos de siliciuro de cobalto son adecuados para la deposición de películas finas semiconductoras, ya que garantizan películas densas y uniformes y mejoran la conductividad de los dispositivos.
Deposición de dispositivos microelectrónicos:
se utilizan para la deposición de capas de metalización en dispositivos microelectrónicos, lo que mejora la estabilidad y la fiabilidad del rendimiento de los dispositivos.
Capas conductoras de alta temperatura:
Las películas delgadas conductoras se pueden depositar a altas temperaturas, mostrando una buena estabilidad térmica y conductividad.
Investigación y desarrollo de materiales:
Ampliamente utilizados en instituciones de investigación y departamentos de I+D corporativos para pruebas de rendimiento de materiales y optimización de parámetros de proceso.
P1: ¿Para qué métodos de pulverización es adecuado el objetivo de pulverización de siliciuro de cobalto?
R1: Se puede utilizar en procesos de película fina, como pulverización catódica por magnetrón, pulverización catódica por RF y deposición química en fase vapor, para satisfacer las necesidades de deposición microelectrónica.
P2: ¿Se puede personalizar la forma cristalina del blanco?
R2: Sí, podemos proporcionar diferentes formas cristalinas de blancos según las necesidades del cliente para optimizar el rendimiento de la película fina.
P3: ¿El blanco es propenso a agrietarse durante la pulverización catódica?
R3: Preparado mediante un proceso metalúrgico de alta densidad, los granos son uniformes, lo que reduce eficazmente el riesgo de grietas y huecos.
P4: ¿Qué precauciones se deben tomar al almacenar el objetivo?
R4: Se recomienda almacenarlo en un entorno sellado, seco y ventilado, evitando la humedad y la contaminación para mantener la estabilidad del rendimiento.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha técnica (TDS)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Nos especializamos en la I+D y el suministro estable de blancos de pulverización de siliciuro de cobalto de alta pureza
. Con un sistema de gestión de calidad maduro y capacidades de personalización flexibles, podemos proporcionar a los clientes soluciones de blancos fiables y trazables adecuadas para la investigación científica y las aplicaciones industriales, lo que ayuda a que los proyectos avancen de manera eficiente.
Fórmula molecular: CoSi₂
Peso molecular: 115,11 g/mol
Aspecto: Gris plateado a negro metálico
Densidad: 6,00 g/cm³
Punto de fusión: 1.400 ℃
Estructura cristalina: Cúbica centrada en la cara
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
