Las obleas
de silicio
son materiales de sustrato en forma de lámina fabricados a partir de silicio monocristalino o policristalino, y son un material básico en la fabricación de semiconductores y microelectrónica. Se utilizan ampliamente en circuitos integrados, dispositivos de potencia, MEMS, sensores y desarrollo de procesos de investigación científica.
Ofrecemos obleas de Si en diversas especificaciones para adaptarnos a diferentes rutas de proceso y necesidades de aplicación. Póngase en contacto con nosotros
directamente para obtener información técnica y presupuestos.
Estructura cristalina estable.
Calidad de superficie controlable.
Adecuadas para diversos procesos de microfabricación.
Fuerte compatibilidad con los procesos.
Selección flexible de tamaños y especificaciones.
Buena consistencia entre lotes
Fabricación de circuitos integrados:
Las obleas de silicio sirven como sustrato básico para los circuitos integrados, admiten estructuras de dispositivos multicapa y son un material clave en el proceso de fabricación de chips.
Dispositivos de potencia y discretos:
En los campos de los semiconductores de potencia y los dispositivos discretos, las obleas de silicio se utilizan para construir estructuras de dispositivos estables que cumplen los requisitos eléctricos y térmicos.
MEMS y sensores:
Ampliamente utilizadas en la fabricación de sistemas microelectromecánicos y sensores, adecuadas para procesos de grabado, deposición y fabricación de microestructuras.
Investigación científica y desarrollo de procesos:
Adecuadas para la verificación de nuevos procesos, la investigación de estructuras de dispositivos y las pruebas de rendimiento de materiales en universidades e instituciones de investigación.
P1: ¿Cuáles son algunas de las aplicaciones más comunes de las obleas de silicio?
R1: Se utilizan principalmente en la fabricación de dispositivos semiconductores, sistemas microelectromecánicos (MEMS), sensores e investigación en micro/nanofabricación.
P2: ¿Existen requisitos de alta calidad superficial para las obleas de silicio durante el procesamiento?
R2: En general, se requiere una buena condición superficial para cumplir con los requisitos de los procesos posteriores, como la fotolitografía, la deposición y el grabado.
P3: ¿Se pueden utilizar las obleas de silicio para experimentos de deposición de películas delgadas?
R3: Sí, son sustratos de deposición de películas delgadas de uso común, adecuados para procesos como pulverización, evaporación y deposición química en fase vapor.
P4: ¿Qué precauciones se deben tomar al almacenar y utilizar obleas de silicio?
R4: Se recomienda almacenarlas en un entorno limpio y seco para evitar daños mecánicos y contaminación de la superficie.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Ficha de datos de seguridad (MSDS)
Informe de inspección de tamaño
Informes de pruebas de terceros disponibles bajo petición
Nos centramos en el suministro de semiconductores y materiales funcionales orientados a la aplicación, haciendo hincapié en la adaptabilidad y la estabilidad de las obleas en los procesos reales. Podemos proporcionar a los clientes parámetros claros, entregas estables y un soporte de comunicación eficiente.
Fórmula molecular: Si
Peso molecular: 28,09 g/mol
Aspecto: Oblea gris plateada
Densidad: 2,33 g/cm³
Punto de fusión: 1414 °C
Punto de ebullición: 3265 °C
Estructura cristalina: Sistema cúbico del diamante
Embalaje interior: Bolsas selladas al vacío y envasadas en cajas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o cajas de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
