ULPMAT

Plomo metal

Chemical Name:
Plomo metal
Formula:
Pb
Product No.:
8200
CAS No.:
7439-92-1
EINECS No.:
231-100-4
Form:
Blanco para sputtering
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
8200ST001 Pb 99.99% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
8200ST002 Pb 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
8200ST003 Pb 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
8200ST004 Pb 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
8200ST005 Pb 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
8200ST006 Pb 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
8200ST007 Pb 99.99% 200 mm x 100 mm x 7 mm Inquire
Product ID
8200ST001
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
8200ST002
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
8200ST003
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
8200ST004
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
8200ST005
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
8200ST006
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
8200ST007
Formula
Pb
Purity
99.99%
Dimension
200 mm x 100 mm x 7 mm

Cátodos de plomo para sputtering Visión general

El metal de plomo es un material de alta pureza diseñado para el proceso de deposición de películas finas con excelente conductividad, estabilidad térmica y buen efecto de deposición. Su pureza puede alcanzar el 99,99% y tiene una alta densidad, lo que puede garantizar una deposición uniforme de la película y una fuerte adhesión.

Proporcionamos cátodos para sputtering de plomo meta de varias formas y tamaños, incluyendo redondos, rectangulares y personalizados, para satisfacer los diferentes requisitos del proceso. Disponemos de un completo servicio servicio postventa postventa para ofrecerle el mejor servicio.

Productos destacados

Pureza: 99,99
Alta densidad para garantizar una deposición uniforme de la película
Tamaño y forma personalizables
Se puede proporcionar un servicio de fijación de objetivos
Aplicable a semiconductores, pantallas, revestimientos ópticos y otros campos

Aplicaciones de los cátodos de plomo para sputtering metálico

Semiconductores: Los cátodos metálicos de Pb se utilizan ampliamente en capas de contacto y capas de interconexión en procesos de semiconductores, con una excelente conductividad y compatibilidad con el proceso.
Pantallas planas: Se utilizan para capas reflectantes o capas de electrodos en pantallas LCD y OLED para garantizar excelentes efectos de visualización.
Recubrimiento óptico: Se utiliza para recubrir lentes, espejos y componentes ópticos para formar películas de alta reflectividad u otras películas funcionales.
Tecnología de baterías: Los cátodos para sputtering de Pb metálico se utilizan para fabricar electrodos de baterías, proporcionando una buena estabilidad electroquímica.

Informes

Proporcionamos certificados de análisis (COA), hojas de datos de seguridad de materiales (MSDS) y otros informes relevantes para cada envío. Al mismo tiempo, apoyamos las pruebas de terceros para mejorar la garantía de calidad y asegurar que los productos cumplen con los estándares de la industria.

Fórmula molecular: Pb
Peso molecular: 207,2 g/mol
Aspecto: Blanco metálico gris plateado con superficie lisa
Densidad: alrededor de 11,34 g/cm³
Punto de fusión: alrededor de 327,5 °C
Estructura cristalina: sistema cúbico centrado en la cara

Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.

Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.

SKU 8200ST Categoría Marca:

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