| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 730800ST001 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST002 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST003 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST004 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST005 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST006 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST007 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST008 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST009 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
Los cátodos para sputtering son un material clave ampliamente utilizado en microelectrónica, optoelectrónica y óptica de precisión. Su elevada constante dieléctrica, excelente transparencia óptica y estabilidad térmica les permiten demostrar un rendimiento excepcional en dispositivos electrónicos de última generación.
Ofrecemos una gran variedad de cátodos de pentóxido de tántalo para sputtering de diversos tamaños y formas, incluidas formas redondas y rectangulares, que pueden personalizarse para satisfacer los requisitos de aplicación del cliente. También proporcionamos asistencia técnica completa y servicio postventa para garantizar un uso eficaz y fiable del material.
Pureza: 99,95% a 99,995
Altas propiedades dieléctricas para dispositivos electrónicos avanzados
Excelente estabilidad química para entornos difíciles
Tamaños y especificaciones personalizables para adaptarse a una gran variedad de equipos de sputtering
Servicios de disponibles
Baja tasa de desprendimiento de partículas para mejorar la calidad de la película
Semiconductores Dispositivos: Se utiliza como material de óxido de puerta de alta k para dispositivos CMOS y condensadores DRAM.
Óptica Películas finas: Utilizadas como material de alto índice de refracción en componentes ópticos como filtros de interferencia y revestimientos antirreflectantes.
Almacenamiento de datos: Se utiliza como capa de óxido funcional en memorias resistivas de acceso aleatorio (RRAM). Células solares: Sirve como capa antirreflectante o capa tampón, mejorando la eficacia de absorción de la luz y la estabilidad del dispositivo.
Proporcionamos un detallado Certificado de análisis (COA)(COA), la hoja de datos de seguridad del material (MSDS) y los informes técnicos pertinentes para cada lote de cátodos para sputtering de Ta₂O₅. También apoyamos los servicios de pruebas independientes de instituciones de terceros para mejorar aún más la garantía de calidad.
Fórmula molecular: Ta₂O₅
Peso molecular: 441,89 g/mol
Aspecto: Blanco, diana cerámica densa con una superficie lisa.
Densidad: Aproximadamente 8,2 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 1.880°C
Estructura cristalina: Monoclínica
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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