Los cátodos para sputtering de óxido de tulio son materiales de óxido de tierras raras de alto rendimiento diseñados para procesos avanzados de deposición de películas finas. Con una pureza de hasta el 99,99%, tienen una excelente estabilidad química y altas propiedades de aislamiento y se utilizan ampliamente en dispositivos optoelectrónicos, materiales de almacenamiento, revestimientos ópticos y otros campos. Los cátodos para sputtering de óxido de tulio de gran pureza mantienen una buena estabilidad térmica en condiciones de alta temperatura y alto vacío, lo que los hace adecuados para procesos exigentes.
Ofrecemos cátodos para sputtering de óxido de tulio en una gran variedad de formas y tamaños, incluyendo redondos, rectangulares y de formas especiales, y podemos proporcionar servicios personalizados basados en las necesidades del cliente. Al mismo tiempo, proporcionamos servicios completos de asistencia postventa para garantizar que no tenga ninguna preocupación en cuanto a la selección, el uso, la adaptación al proceso, etc.
Pureza: 99,99
Estructura densa: garantiza una deposición uniforme y estable de la película
Alto aislamiento y estabilidad térmica: adecuado para películas dieléctricas de alto rendimiento y capas funcionales
Tamaño y forma personalizables: cumple los requisitos de compatibilidad de varios equipos de PVD
Compatible con los principales sistemas de deposición: se adapta a equipos como el sputtering por magnetrón y la evaporación por haz de electrones
Servicio de encuadernación: se pueden proporcionar servicios de procesamiento y encuadernación de placas base de destino
Dispositivos semiconductores: como material dieléctrico de alta k, optimiza la capacitancia y las fugas de los dispositivos
Recubrimientos ópticos: utilizados para componentes ópticos de gama alta, como filtros, ventanas de infrarrojos y recubrimientos de alto índice de refracción
Almacenamiento de información: se utiliza para nuevos materiales de capa fina de almacenamiento óptico y magneto-óptico
Dispositivos láser y materiales de fósforo: mejora de la eficiencia de excitación en sistemas de dopaje con tierras raras
Proporcionamos un informe de análisis completo (COA), una hoja de datos de seguridad del material (MSDS) y documentos de conformidad (como RoHS, REACH) para cada lote. Apoyamos las pruebas de terceros para garantizar que la calidad del producto cumple las normas internacionales.
Fórmula molecular: Tm₂O₃
Peso molecular: 385,87 g/mol
Aspecto: Blanco a verde claro en bloque
Densidad: 8,6 ± 0,1 g/cm³ (valor medido, densidad relativa ≥99%)
Punto de fusión: 2341 ± 10°C
Estructura cristalina: Sistema cúbico (grupo espacial Ia-3)
Método de unión: Placa posterior de cobre/molibdeno
Palabra de señal:
Advertencia
Indicaciones de peligro:
H315 Provoca irritación cutánea.
H319 Provoca irritación ocular grave.
H335: Puede provocar irritación de las vías respiratorias
Embalaje interior: Bolsa sellada al vacío para proteger contra la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cartón o caja de madera, según tamaño y peso.
Objetivos frágiles: Se utiliza un embalaje especial de protección para garantizar un transporte seguro.
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