Los cátodos para sputtering de óxido de lantano, manganeso y aluminio son materiales de alto rendimiento diseñados para procesos avanzados de deposición de películas finas. El material tiene una pureza química excelente y una microestructura densa, lo que garantiza una formación de película uniforme, una fuerte adherencia y un contenido de impurezas extremadamente bajo, cumpliendo los estrictos requisitos de la electrónica y la óptica de gama alta.
Ofrecemos cátodos para sputtering de óxido de aluminio-lantano-manganeso en una gran variedad de formas y tamaños, incluidos redondos y rectangulares, y admitimos especificaciones personalizadas según las necesidades del cliente. Tanto si se trata de investigación científica como de producción industrial, podemos ofrecer una gama completa de asistencia técnica y servicio posventa para garantizar el buen desarrollo de su proyecto.
Características del producto:
Alta pureza, que cumple la estricta norma del 99,9%.
Excelente densidad, que garantiza la deposición uniforme de películas finas
Personalización flexible del tamaño y la forma para satisfacer diversos requisitos de proceso
Prestación de servicios de fijación de objetivos
Ampliamente utilizado en dispositivos semiconductores, almacenamiento magnético, componentes ópticos y revestimientos funcionales
Aplicaciones
Semiconductores: utilizados para fabricar capas funcionales de película fina en dispositivos electrónicos de alto rendimiento
Almacenamiento magnético: Preparación de películas magnéticas para lograr un almacenamiento de datos de alta densidad
Dispositivos ópticos: Formar revestimientos funcionales de alta calidad en lentes y reflectores
Recubrimientos funcionales: utilizados en sensores y otros materiales avanzados
Informes
Cada lote de productos va acompañado de un certificado de análisis (COA), una hoja de datos de seguridad de materiales (MSDS) e informes de calidad relacionados. Al mismo tiempo, apoyamos las pruebas de terceros para garantizar que la calidad de los productos cumple las normas más exigentes del sector.
Fórmula molecular: LaMn₀.₂Al₀.₈O₃
Peso molecular: alrededor de 190,00 g/mol
Aspecto: blanco grisáceo de blanco cerámico denso, superficie lisa.
Densidad: ≥ 5,0 g/cm³ (cuerpo denso sinterizado).
Punto de fusión: alrededor de 1.500 °C (material cerámico)
Solubilidad: insoluble en agua y disolventes orgánicos convencionales
Conductividad: en estado sólido presenta propiedades semiconductoras
Estabilidad térmica: estable a altas temperaturas, adecuado para entornos de proceso de alta temperatura
Coeficiente de expansión térmica: alrededor de 8 × 10-⁶ K-¹ (adecuado para el proceso de deposición de películas finas)
Estructura cristalina: sistema ortorrómbico
Propiedades magnéticas: paramagnético, propiedades magnéticas estables
Estabilidad química: químicamente inerte, resistente a la corrosión ácida y alcalina, apto para diversos entornos atmosféricos
Resistencia a la corrosión: estabilidad a largo plazo en atmósferas oxidantes e inertes
Propiedades mecánicas: estructura cerámica densa, alta resistencia mecánica, adecuado para el proceso de sputtering
Embalaje interior: Bolsa sellada al vacío para proteger contra la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cartón o caja de madera, según tamaño y peso.
Objetivos frágiles: Se utiliza un embalaje especial de protección para garantizar un transporte seguro.
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