| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 4908300800ST001 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | 299.6 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST002 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | 800 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST003 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST004 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST005 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST006 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4908300800ST007 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST008 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
El óxido de indio y zinc (IZO) es un material de óxido conductor transparente (TCO) de alta pureza ampliamente utilizado en electrónica de capa fina, dispositivos optoelectrónicos y aplicaciones de semiconductores. Con una excelente conductividad eléctrica, transparencia óptica y formación de película uniforme, los cátodos para sputtering IZO son esenciales para la deposición de película fina en pantallas, paneles táctiles y dispositivos fotovoltaicos. Nuestros cátodos garantizan una pureza del 99,95% (3N5), una estructura densa y un rendimiento estable para aplicaciones industriales y de investigación.
Suministramos cátodos para sputtering de óxido de indio-zinc de alta calidad para instituciones de investigación y fabricantes. Personalizable a medida.Contacte con nosotros para el mejor precio y soporte técnico.
Pureza superior: La pureza del 99,95% (3N5) cumple los estrictos requisitos de las aplicaciones de capa fina y TCO.
Composición personalizable: Las proporciones In:Zn y las dimensiones del cátodo pueden ajustarse según los requisitos de deposición.
Alto rendimiento: Excelente conductividad eléctrica, transparencia óptica y características de sputtering estables.
Material estable: La estructura densa, la composición uniforme y los bajos niveles de impurezas garantizan unos resultados reproducibles de la capa fina.
Electrónica de película fina: Se aplica en electrodos transparentes, transistores de película fina (TFT) y paneles de visualización.
Dispositivos optoelectrónicos Optoelectrónicos: Utilizados en OLED, fotodetectores, sensores infrarrojos y paneles táctiles.
Solar Solares: Adecuado para capas tampón y de electrodos transparentes en CIGS y otras células solares avanzadas.
Investigación y desarrollo: Ampliamente utilizado en laboratorios para la ciencia de materiales y la investigación de dispositivos.
Dispositivos energéticos: Aplicado en películas conductoras transparentes para aplicaciones de almacenamiento y conversión de energía.
Experiencia en el sector: Especializados en el suministro de cátodos para sputtering de gran pureza para tecnologías TCO y de película fina.
Soluciones personalizadas: Flexibilidad en la composición, dimensiones y especificaciones de pureza de los cátodos.
Calidad fiable: El estricto control de impurezas, la estructura densa y la composición uniforme garantizan un rendimiento estable.
Entrega mundial: Envío rápido y seguro a todo el mundo con embalaje protector.
Asistencia técnica: Un equipo profesional proporciona documentación técnica completa y asesoramiento.
F1. ¿Cuál es la pureza de sus cátodos para sputtering IZO?
A1. Nuestros cátodos tienen una pureza estándar del 99,95% (3N5), lo que garantiza resultados fiables para aplicaciones avanzadas de película fina y optoelectrónica.
F2. ¿Pueden personalizarse la composición o el tamaño de los cátodos de óxido de indio y zinc?
A2. Sí, ofrecemos relaciones In:Zn y dimensiones de cátodos personalizables según los requisitos de su sistema de deposición.
F3. ¿Cómo deben almacenarse los cátodos para sputtering de óxido de indio y zinc?
A3. Almacénelos en un entorno fresco y seco, lejos de la humedad y los contaminantes, en un embalaje protector.
F4. ¿Qué industrias utilizan cátodos para sputtering de óxido de indio-cinc?
A4. Ampliamente utilizados en electrónica de capa fina, optoelectrónica, células solares, semiconductores y laboratorios de investigación.
Cada lote de productos se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos técnicos (TDS)
Ficha de datos de seguridad (FDS)
Los informes de pruebas de terceros están disponibles bajo petición para cumplir con las normas industriales y de investigación.
Fórmula química: In₂O₃-ZnO
Aspecto: Blanco denso blanquecino o gris plateado.
Punto de fusión: ~1900°C
Punto de ebullición: ~2000°C
Estructura cristalina: Cúbica (In₂O₃ como fase primaria).
Selección de la placa de soporte: Cobre (Cu), Aluminio (Al) o Acero inoxidable (SS), seleccionable en función del tamaño del objetivo y del equipo de deposición.
Método de pulverización catódica: Pulverización catódica de magnetrón RF/DC
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
