Óxido de indio-óxido de galio (In2O3-Ga2O3) es un material cerámico de alta pureza ampliamente utilizado en electrónica transparente, dispositivos optoelectrónicos e investigación de semiconductores avanzados. Con una excelente transparencia óptica, una conductividad eléctrica estable y unas propiedades térmicas superiores, los cátodos de In2O3-Ga2O3 son ideales para la deposición de películas finas en tecnologías de visualización, electrónica de potencia y componentes optoelectrónicos de próxima generación.
Nuestros cátodos para sputtering de In2O3-Ga2O3 se fabrican con una pureza del 99,99% (4N), una alta densidad y una microestructura uniforme, lo que garantiza un rendimiento y una reproducibilidad constantes de la película fina tanto para aplicaciones industriales como académicas.
Alta pureza: 99,99% (4N) garantiza un rendimiento óptico y electrónico fiable.
Microestructura estable: Densa y uniforme para mejorar la eficiencia del sputtering.
Excelente transparencia: Adecuado para películas finas conductoras y funcionales transparentes.
Estabilidad térmica: Soporta procesos de deposición de películas finas a alta temperatura.
Especificaciones flexibles: Disponible en forma redonda, rectangular o personalizada.
Electrónica transparente: Utilizado en capas conductoras transparentes y dispositivos de película fina.
Optoelectrónica Optoelectrónicos: Aplicados en sensores, detectores y recubrimientos ópticos avanzados.
Transistores de película fina (TFT): Capas funcionales para placas base de pantallas.
Electrónica de potencia: El Ga₂O₃ mejora el rendimiento de alta tensión y alta frecuencia.
Materiales de I+D: Ampliamente utilizado en laboratorios para la investigación de semiconductores y ciencia de materiales.
Fabricación profesional: Centrados en el suministro de cátodos para sputtering de óxidos y semiconductores de alta pureza.
Personalizado Personalizados: Personalización del tamaño, pureza y composición de los cátodos.
Estricto control de calidad: Utilizando análisis de impurezas ICP-MS para garantizar bajos niveles de impurezas.
Entrega mundial: Embalaje seguro y servicios logísticos rápidos.
Asistencia técnica: Cada lote de productos se suministra con un informe completo de COA, TDS, MSDS y análisis de impurezas.
F1. ¿Qué nivel de pureza ofrecen para los cátodos para sputtering de óxido de indio-óxido de galio?
A1. La pureza estándar es del 99,99% (4N). Bajo pedido, se pueden suministrar niveles de pureza superiores.
F2. ¿Pueden suministrar diferentes formas y dimensiones?
A2. Sí, suministramos blancos circulares, rectangulares y con formas personalizadas según las necesidades del cliente.
F3. ¿Qué opciones de placa de soporte hay disponibles?
A3. Ofrecemos placas de soporte de Cu, Mo y Al en función de los requisitos de deposición.
F4. ¿Cómo se embalan los cátodos?
A4. Sellados al vacío y protegidos con un embalaje antichoque para garantizar una entrega segura.
F5. ¿Qué industrias utilizan principalmente cátodos de In2O3-Ga2O3?
A5. Se utilizan en películas conductoras transparentes, optoelectrónica, pantallas TFT e investigación en electrónica de potencia.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos técnicos (TDS)
Hoja de datos de seguridad del material (MSDS)
Los informes de pruebas de terceros están disponibles previa solicitud.
Fórmula molecular: In₂O₃-Ga₂O₃
Aspecto: Blanco cerámico denso de color blanquecino o gris claro
Estructura cristalina: Cúbica (In₂O₃ fase primaria), Monoclínica/Ortorrómbica (Ga₂O₃ fase)
Método de unión: Disponible en no adherido, adherido In₂O₃ o fijado mecánicamente
Opciones de placa de soporte: Cobre (Cu), molibdeno (Mo), aluminio (Al), personalizable a petición
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y encajonadas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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