Óxido de indio-galio-zinc (In2O3-Ga2O3-ZnO) son materiales semiconductores de óxido de gran pureza ampliamente utilizados en electrónica transparente, transistores de película fina (TFT) y pantallas planas. Con una excelente movilidad de electrones, transparencia óptica y composición estable, los gránulos de IGZO son una materia prima ideal para cátodos para sputtering, recubrimientos de películas finas y aplicaciones de investigación. Nuestros gránulos de IGZO se fabrican con una pureza del 99,99% (4N), una morfología densa y una distribución uniforme de las partículas, lo que garantiza un rendimiento constante tanto en uso industrial como en laboratorio.
Ofrecemos gránulos de óxido de indio-galio-zinc (IGZO) de alta calidad con rangos de tamaño personalizados, compatibles con diversas tecnologías de deposición de película fina.
Alta pureza: 99,99% (4N) de pureza para un rendimiento superior en aplicaciones de semiconductores y pantallas.
Composición estable: La proporción uniforme In:Ga:Zn:O garantiza la reproducibilidad de las propiedades de la película fina.
Excelente rendimiento eléctrico: Alta movilidad de electrones adecuada para aplicaciones TFT avanzadas.
Tamaño de partícula flexible: Disponible en diferentes tamaños de gránulo para cátodos de sputtering e investigación.
Amplias aplicaciones: Desde pantallas planas hasta optoelectrónica transparente.
Fabricación de cátodos para sputtering: Materia prima para cátodos para sputtering IGZO.
Transistores de película fina (TFT): Para su uso en placas base de matriz activa de pantallas OLED y LCD.
Electrónica transparente: Ideal para capas conductoras flexibles y transparentes.
Dispositivos optoelectrónicos Optoelectrónicos: Se utiliza en fotodetectores, sensores y placas base de pantallas.
Investigación científica: Aplicado en laboratorios para estudios de películas finas de semiconductores y óxidos.
Experiencia profesional: Especializados en materiales semiconductores de óxido.
Soluciones personalizadas: Control flexible del tamaño y la composición de los gránulos.
Calidad fiable: Bajos niveles de impurezas con estricto control ICP-MS.
Envío global: Entrega rápida con embalaje seguro.
Asistencia técnica: COA, TDS, MSDS e informes de impurezas disponibles.
F1. ¿Qué grado de pureza tienen los gránulos de In2O3-Ga2O3-ZnO?
A1. La pureza estándar es del 99,99% (4N), adecuada para tecnologías TFT y de visualización avanzadas.
F2. ¿Se puede personalizar el tamaño de los gránulos?
A2. Sí, proporcionamos tamaños personalizados, con rangos estándar entre 1-6 mm.
F3. ¿Para qué se utilizan principalmente los gránulos IGZO?
A3. Se utilizan principalmente en la fabricación de cátodos para sputtering, transistores de película fina y dispositivos electrónicos transparentes.
F4. ¿Cómo se envasan los gránulos de óxido de indio-galio-zinc?
A4. Se envasan en recipientes antiestáticos sellados al vacío para evitar la contaminación.
F5. ¿Suministran documentación técnica con cada pedido?
A5. Sí, proporcionamos informes de análisis de impurezas COA, TDS, MSDS e ICP-MS.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos técnicos (TDS)
Hoja de datos de seguridad del material (MSDS)
Los informes de pruebas de terceros están disponibles previa solicitud.
Fórmula molecular: In₂O₃-Ga₂O₃-ZnO
Aspecto: Gránulos de color blanco grisáceo a plateado
Estructura cristalina: Amorfa/microcristalina
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y encajonadas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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