| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 490800ST001 | In2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST002 | In2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST003 | In2O3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST004 | In2O3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 4 mm | Inquire |
| 490800ST005 | In2O3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST006 | In2O3 | 99.99% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST007 | In2O3 | 99.99% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST008 | In2O3 | 99.99% | Ø 203.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST009 | In2O3 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST010 | In2O3 | 99.995% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 490800ST011 | In2O3 | 99.995% | Ø 101.6 mm x 4 mm | Inquire |
| 490800ST012 | In2O3 | 99.995% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 490800ST013 | In2O3 | 99.995% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
El óxido de indio (In2O3) es un material cerámico de alta pureza ampliamente utilizado en películas conductoras transparentes, dispositivos optoelectrónicos e investigación avanzada de semiconductores. Con una excelente transparencia óptica, conductividad controlable y propiedades químicas estables, los cátodos para sputtering de In₂O₃ son ideales para la deposición de películas finas en pantallas, células solares y recubrimientos funcionales.
Nuestros cátodos para sputtering de In2O3 se fabrican con una pureza del 99,995% (4N5) o superior, presentando una alta densidad, una microestructura uniforme y un rendimiento estable para garantizar una calidad de película fina reproducible tanto para la producción industrial como para la investigación académica.
Alta pureza: 99,995% (4N5) o superior garantiza un rendimiento fiable de la película fina.
Excelente transparencia: Alta transmisión óptica en el rango visible.
Propiedades eléctricas estables: Resistividad ajustable adecuada para aplicaciones optoelectrónicas.
Microestructura densa: La alta densidad de sinterización mejora la eficacia del sputtering.
Opciones flexibles: Formas personalizadas, unión y placas de soporte disponibles.
Películas conductoras transparentes: Utilizadas en pantallas, OLED y paneles táctiles.
Dispositivos optoelectrónicos Optoelectrónicos: Aplicados en fotodetectores, sensores y películas delgadas funcionales.
Células solares de película fina: Adecuadas para capas de electrodos y amortiguadoras.
Semiconductores: Para transistores de película fina y dispositivos integrados.
Investigación y desarrollo: Muy utilizado en laboratorios de electrónica de óxidos.
Proveedor profesional: Especializado en cátodos para sputtering conductores y semiconductores transparentes.
Soporte de personalización: Personalización flexible de tamaño, pureza y composición.
Estricto control de calidad: El análisis de impurezas ICP-MS garantiza unos niveles de impurezas ultrabajos.
Entrega en todo el mundo: Embalaje seguro, envío rápido, apoyo a clientes internacionales.
Documentación completa: Proporcionando COA, TDS, MSDS, e informes de impurezas.。
F1. ¿Cuál es la pureza de sus cátodos para sputtering de In2O3?
A1. La pureza estándar es del 99,99% (4N). Disponemos de purezas superiores bajo pedido.
F2. ¿Pueden suministrar dimensiones y formas personalizadas?
A2. Sí, disponemos de diseños redondos, rectangulares y personalizados.
F3. ¿Qué placas de soporte suministran?
A3. Disponemos de placas de cobre (Cu), molibdeno (Mo) y aluminio (Al).
F4. ¿Cuáles son las principales aplicaciones de los cátodos de óxido de indio?
A4. Películas conductoras transparentes, células solares, sensores, TFT y proyectos de I+D.
F5. ¿Cómo se embalan los cátodos para su envío?
A5. Los objetivos se sellan al vacío y se protegen con un embalaje antichoque para una entrega segura.
Cada lote se suministra con:
Certificado de análisis (COA)
Hoja de datos técnicos (TDS)
Hoja de datos de seguridad del material (MSDS)
Los informes de pruebas de terceros están disponibles previa solicitud.
Fórmula molecular: In₂O₃
Peso molecular: 277,64 g/mol
Aspecto: Blanco cerámico blanquecino o amarillo pálido
Densidad: ≥ 7,18 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: 1910°C
Punto de ebullición: ~2000°C
Estructura cristalina: Cúbica (estructura de bixbyita)
Método de enlace: Sin unión / Soldadura In₂ / Fijación mecánica
Opciones de placa de soporte: Cobre (Cu), molibdeno (Mo), aluminio (Al), opciones personalizadas disponibles
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y encajonadas para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
Si necesitas algún servicio, ponte en contacto con nosotros
