Los cátodos para sputtering de óxido de hafnio-circonio son materiales cerámicos compuestos avanzados diseñados para procesos de deposición de películas finas de alto rendimiento. Combinando las propiedades superiores del óxido de hafnio y el óxido de circonio, estos cátodos ofrecen alta pureza, alta densidad y excelente estabilidad térmica, garantizando películas depositadas uniformes y densas con fuerte adherencia y mínimas impurezas.
Ofrecemos cátodos para sputtering de óxido de hafnio y circonio en una variedad de relaciones de composición y tamaños, y podemos personalizar las especificaciones para satisfacer las necesidades del cliente. También proporcionamos asistencia técnica y servicio postventa para garantizar un proceso de producción eficiente y sin problemas.
Pureza: 99,9
La sinterización de alta densidad garantiza una deposición uniforme de la capa fina
Excelente estabilidad térmica y resistencia mecánica
Ratios de composición, tamaños y formas personalizables
Adecuado para semiconductores avanzados, capas dieléctricas de alto k y revestimientos ópticos
Semiconductores Industria de semiconductores: Se utiliza como material dieléctrico de puerta de alta k para mejorar el rendimiento y la estabilidad de los transistores.
Recubrimientos ópticos: Utilizados para la producción de películas ópticas antirreflectantes y de alto índice de refracción para aplicaciones como lentes, pantallas y láseres.
Materiales cerámicos: Adecuados para revestimientos cerámicos resistentes al desgaste y a altas temperaturas para prolongar la vida útil de los dispositivos. Dispositivos MEMS: La deposición de películas finas funcionales para sistemas microelectromecánicos (MEMS) garantiza excelentes propiedades eléctricas y mecánicas.
Proporcionamos un detallado Certificado de análisis (COA)(COA), la hoja de datos de seguridad de materiales (MSDS) y un informe de las pruebas de rendimiento de cada lote de productos. También ofrecemos servicios de pruebas de terceros autorizados para garantizar que la calidad de los productos cumple las normas del sector y los requisitos de los clientes.
Fórmula molecular: HfO₂-ZrO₂
Aspecto: Blanco, blanco cerámico denso con superficie lisa.
Punto de fusión: Aproximadamente 2.700°C (cerámica compuesta estable a altas temperaturas)
Estructura cristalina: Principalmente una mezcla de fases tetragonal y monoclínica
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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