| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 720800ST001 | HfO2 | 99.9% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 720800ST002 | HfO2 | 99.9% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 720800ST003 | HfO2 | 99.9% (Zr< 0.5wt%) | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
Los cátodos para sputtering son materiales cerámicos avanzados diseñados específicamente para procesos de deposición de películas finas de alto rendimiento. Su pureza extremadamente alta y su estructura densa garantizan una deposición de película fina uniforme y estable, una adhesión excelente y un contenido de impurezas extremadamente bajo, cumpliendo los estrictos requisitos de las industrias de semiconductores y optoelectrónica.
Ofrecemos una gran variedad de cátodos de óxido de hafnio para sputtering de distintos tamaños y formas, personalizables para satisfacer las necesidades específicas del cliente. También proporcionamos asistencia postventa para garantizar un uso sin preocupaciones.
Pureza: 99,9
La alta densidad garantiza una deposición uniforme de la película fina
Tamaño, forma y envasado personalizables
Servicios de servicios disponibles
Adecuado para semiconductores, películas de alta constante dieléctrica k, revestimientos ópticos y otras aplicaciones
Semiconductores: Como material dieléctrico de altaκ, se utiliza ampliamente en capas dieléctricas de puerta de circuitos integrados de nueva generación, mejorando el rendimiento y la estabilidad del dispositivo.
Optoelectrónica: Se utiliza en la fabricación de películas ópticas delgadas con alta transmitancia y alto índice de refracción.
Dispositivos de memoria: Se utiliza para la deposición de películas finas en aplicaciones de memoria no volátil.
Recubrimientos ópticos ópticos: Utilizados para la deposición de películas funcionales de alto rendimiento en lentes, pantallas y dispositivos láser.
Proporcionamos un Certificado de análisis (COA)(COA), la hoja de datos de seguridad del material (MSDS) y otros informes técnicos relevantes para cada lote de cátodos para sputtering de HfO₂. Apoyamos las pruebas de terceros para garantizar que la calidad del producto cumple las normas internacionales y los requisitos del cliente.
Fórmula molecular: HfO₂
Peso molecular: 210,49 g/mol
Aspecto: Blanco, blanco cerámico denso con una superficie lisa.
Densidad: Aproximadamente 9,68 g/cm³ (cercana a la densidad teórica)
Punto de fusión: Aproximadamente 2.758 °C
Estructura cristalina: Monoclínica, tetragonal o cúbica
Envasado interior: Bolsas selladas al vacío y en caja para evitar la contaminación y la humedad.
Embalaje exterior: Cajas de cartón o de madera seleccionadas en función del tamaño y el peso.
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